物理回收法（適用于金屬靶材）
真空熔煉：將屬靶材廢渣（如銅、鈦）在真空爐中（壓強(qiáng) < 1Pa，溫度 1200-1600℃）熔煉，去除易揮發(fā)雜質(zhì)（如鋅），直接澆鑄為新靶材坯料，純度保持 99.9% 以上。
粉末冶金：靶材碎屑經(jīng)氫化 - 脫氫處理（HDH 工藝）制成金屬粉末，再通過壓制 - 燒結(jié)（如放電等離子燒結(jié) SPS）制成靶材，適用于鈦、鋯等活性金屬。

提純與再利用
金屬單質(zhì)提純
電解精煉：如粗銅通過電解得到高純銅（純度達(dá) 99.99%），用于重新配制電鍍液。
金屬化合物制備
凈化后的金屬鹽溶液經(jīng)結(jié)晶、干燥后，制成電鍍級(jí)化學(xué)品（如氯化鎳、鉻酸酐），直接回用于電鍍生產(chǎn)線。
建材或填料利用
對(duì)提取金屬后的殘?jiān)ㄈ缍趸?、金屬氧化物），可用于生產(chǎn)水泥、陶瓷填料或路基材料，但需確保重金屬浸出濃度符合《危險(xiǎn)廢物填埋污染控制標(biāo)準(zhǔn)》。

廢渣主要來源
靶材損耗：濺射過程中未沉積的金屬 / 陶瓷靶材粉末（如鈦、鉻、鋯、氮化鈦等）；
設(shè)備維護(hù)：真空腔體內(nèi)殘留的沉積廢料、更換的靶材邊角料；
工藝副產(chǎn)物：反應(yīng)氣體（如 N?、Ar、CH?）與靶材反應(yīng)生成的固態(tài)顆粒物（如碳化物、氮化物）；
廢氣處理殘?jiān)何矚鈨艋b置（如活性炭吸附、過濾器）捕獲的金屬粉塵。