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杭州富陽(yáng)真空流量計(jì)回收杭州富陽(yáng)真空爐回收

更新時(shí)間:2025-09-24 [舉報(bào)]
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具體地,為了減小螺釘16的上端部與上減震橡膠墊172之間的壓強(qiáng),進(jìn)而延長(zhǎng)上減震橡膠墊172的使用壽命,所述螺釘16的上端部和上減震橡膠墊172之間設(shè)置有墊片173。在本實(shí)施例中,所述螺釘16設(shè)置有四個(gè),為了當(dāng)不再繼續(xù)加料時(shí),可以更方便地將外部化料器7提升不干涉主爐室坩堝21上升的位置,并方便外部化料器7的移動(dòng)、拆解和清理,連續(xù)拉晶單晶爐還包括化料器升降驅(qū)動(dòng)裝置和化料器旋臂18,所述底座1上設(shè)置有立柱10,所述化料器旋臂18鉸接在立柱10上,所述化料器升降驅(qū)動(dòng)裝置連接在化料器旋臂18上,所述外部化料器7連接在化料器升降驅(qū)動(dòng)裝置上,以便在不繼續(xù)加料時(shí),通過(guò)化料器升降驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)外部化料器7上升不干涉主爐室坩堝21上升的位置;和化料器升降驅(qū)動(dòng)裝置及外部化料器7隨化料器旋臂18一起轉(zhuǎn)動(dòng)。
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單晶硅生長(zhǎng)爐的特點(diǎn)HD系列硅單晶爐的爐室采用3節(jié)設(shè)計(jì)。上筒和上蓋可以上升并向兩邊轉(zhuǎn)動(dòng),便于裝料和維護(hù)等。爐筒升降支撐采用雙立柱設(shè)計(jì),提高穩(wěn)定性。支撐柱安裝在爐體支撐平臺(tái)的上面,便于平臺(tái)下面設(shè)備的維護(hù)。爐筒升降采用絲杠提升技術(shù),簡(jiǎn)便干凈。全自動(dòng)控制系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)方便,可靠性高,抗干擾性好。雙攝像頭實(shí)時(shí)采集晶體直徑信息。液面測(cè)溫確保下籽晶溫度和可重復(fù)性。爐內(nèi)溫度或加熱功率控制方式可選,??販鼐取Y|(zhì)量流量計(jì)控制流量。真空計(jì)結(jié)合電動(dòng)蝶閥實(shí)時(shí)控制爐內(nèi)真空度。分子泵回收,真空泵回收,真空流量計(jì)回收,plc編程回收,控制屏回收,離子泵回收,渦輪分子泵回收,螺桿真空泵回收,渦旋高真空泵回收,本發(fā)明的直拉式單晶生長(zhǎng)爐中,經(jīng) 輸入管輸入的氣壓為0. 8 x 103pa0. 9 x l0a,流量為30L/min。 該流量不但不影響該爐中單晶的生長(zhǎng),平均每個(gè)直拉式單晶生長(zhǎng)爐每 天可少消耗1440L,有效降低了生產(chǎn)成本,且利于在硅單晶生長(zhǎng)過(guò)程 中單晶分子排列結(jié)構(gòu)的整齊性,還利于提高電阻率的均布性。(2)本發(fā)明 的直拉式單晶生長(zhǎng)爐中,碗形的氣流導(dǎo)向裝置設(shè)于坩堝支持器下方和爐底部的排氣口之間,且氣流導(dǎo)向裝置的中軸孔及一對(duì)電極孔分別與該爐的石 墨中軸及一對(duì)電極孔配合設(shè)置,有效地減小了爐內(nèi)空間,便于迅速及時(shí)地 將爐內(nèi)的一氧化硅與的混合氣體排出,且利于減少熱能和的消耗量,使原有的引晶功率從65KW減到61KW;另外,由于該爐的排氣口與氣流 導(dǎo)向裝置的各通氣孔相連通,

標(biāo)簽:真空爐回收
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