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而石墨加熱器作為加熱系統(tǒng)的核心部件,通過自身發(fā)熱作為整個(gè)熱場(chǎng)的熱量來源,因此也是整個(gè)熱場(chǎng)中為核心的部件。而加熱器的設(shè)計(jì)需要綜合考慮熱學(xué)、力學(xué)、電學(xué)、機(jī)械等各個(gè)領(lǐng)域內(nèi)的知識(shí),比較復(fù)雜,因此很多使用的加熱器都存在種種先天缺陷,造成使用時(shí)發(fā)熱不足、打火、變形過大、壽命過短等問題。下文將從加熱器的使用要求入手,分析加熱器的設(shè)計(jì)。2加熱器的工作原理與使用要求

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結(jié)合單晶爐提拉系統(tǒng)實(shí)際結(jié)構(gòu),進(jìn)行了系統(tǒng)UG三維實(shí)體建模、動(dòng)平衡數(shù)學(xué)建模、計(jì)算以及提拉系統(tǒng)動(dòng)平衡仿真配平工作。系統(tǒng)動(dòng)平衡分析、計(jì)算的結(jié)果明,提拉系統(tǒng)配平效果即動(dòng)平衡效果是比較好的。隨后,針對(duì)某型號(hào)單晶爐提拉系統(tǒng)的實(shí)際結(jié)構(gòu),進(jìn)行了提拉系統(tǒng)理論靜不平衡量的大小、相位計(jì)算,三維軟件UG建模計(jì)算和該設(shè)備“以動(dòng)測(cè)靜”法的平衡實(shí)驗(yàn)分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與分析1　引　言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95%以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長(zhǎng)開始時(shí) ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對(duì)晶體的提拉速度有十分嚴(yán)格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對(duì)單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進(jìn)行研究有實(shí)際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運(yùn)動(dòng)是靠驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過減速器 ,再由齒輪齒條機(jī)構(gòu)帶動(dòng)的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運(yùn)動(dòng) ,而且當(dāng)提拉負(fù)載增大引起線速度為零時(shí) ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動(dòng)。在實(shí)際單晶爐中 ,對(duì)提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標(biāo)是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實(shí)現(xiàn)無級(jí)可調(diào) ,線性精度大于± 2 %