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廈門光刻膠 美國光刻膠
厚度范圍?：專為15-30μm厚膜設(shè)計，通過化學放大作用實現(xiàn)?低曝光劑量?（顯著低于傳統(tǒng)厚膠）和?快速顯影?（顯影時間縮短50%以上）
?深寬比與陡直度?：光刻后形成?高深寬比結(jié)構(gòu)?，側(cè)壁接近垂直（角度偏差≤5°），適用于精密微納加工
?工藝簡化?：無需N2脫氣和再水化延遲，軟烘烤時間短（常規(guī)厚膠的1/3）
美國光刻膠DOWBCB4026-46光刻膠半導(dǎo)體表面活性劑
美國光刻膠紫外光刻膠NR77-1500PY半導(dǎo)體制造
美國光刻膠PMGISF系列光刻膠深層固化避光
美國光刻膠DOWPDMS耐高溫硅膠電阻模組灌封流動性好無需加溫
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美國光刻膠電子束光刻膠495PMMA納米級結(jié)構(gòu)
價格面議
美國光刻膠SU-8Developer顯影液沖洗液質(zhì)量優(yōu)
美國光刻膠SU-81000系列增強溫度水油兩用光刻膠安全環(huán)保材質(zhì)
美國光刻膠stripperA去膠液光刻膠剝離液溶解性好
美國光刻膠su-82000光刻膠薄膜制備電磁涂層
美國光刻膠電子束光刻膠495PMMAKAYAKUMicrochem納米級結(jié)構(gòu)
