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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。?

對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

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在簡易隔離式偏壓電源設(shè)計中，非對稱半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源，類似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動的場效應(yīng)管(FET)驅(qū)動電感電容濾波器，隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用，調(diào)整濾波器輸出，保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于，電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計巧妙地解決了負載電壓調(diào)節(jié)的難題，通過二極管的直流電壓調(diào)整，提升了負載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場效應(yīng)管替代，性能將進一步提升。

總結(jié)起來，真空多弧離子鍍膜機的偏壓電源是一個精密調(diào)控的系統(tǒng)，它通過復(fù)雜的電路設(shè)計，確保了離子的加速和沉積過程，從而實現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源，每一環(huán)節(jié)都對終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域,
JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設(shè)備（加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機），針對汽車、摩托車燈具而設(shè)計的，在一個真空室內(nèi)完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應(yīng)用于光學產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

利摘要顯示，本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機構(gòu)，滑動機構(gòu)上安裝有驅(qū)動機構(gòu)以及加料機構(gòu)，驅(qū)動機構(gòu)的動力輸出端與加料機構(gòu)傳動連接；加料機構(gòu)的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構(gòu)內(nèi)，加料機構(gòu)與外部管式爐的進料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構(gòu)，攪拌機構(gòu)將儲料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機構(gòu)內(nèi)。實現(xiàn)了在CVD過程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進入管式爐以進行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達到了實時動態(tài)調(diào)整進料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。

裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

　　可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

　　鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全啞）、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。

1）所需設(shè)備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結(jié)構(gòu)：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設(shè)計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設(shè)計。
　　6.人機對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話，及時對生產(chǎn)過程進行必要干預(yù)。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設(shè)施：

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的卷繞控制要求的轉(zhuǎn)矩控制，以般采用直流驅(qū)動，但是隨著交流驅(qū)動技術(shù)的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機或交流異步電機驅(qū)動。丹佛斯FC302系列驅(qū)動器具有伺服級的驅(qū)動性能，驅(qū)動交流異步電機也有實現(xiàn)平穩(wěn)的轉(zhuǎn)矩控制，為這個行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設(shè)置幾個簡單的參數(shù)，就能滿足實際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的傳動結(jié)構(gòu)：
　　放卷轉(zhuǎn)向為正
　　放卷轉(zhuǎn)向為負
　　3驅(qū)動懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的典型傳動結(jié)構(gòu)，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺FC302驅(qū)動，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺FC302驅(qū)動，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺FC302驅(qū)動，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉(zhuǎn)向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時有正、反兩種轉(zhuǎn)向，對應(yīng)反、正兩種轉(zhuǎn)矩。

　　真空鍍膜機傳動系統(tǒng)的特點：
　　1.由于真空室狹小，無法安裝張力檢測裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅(qū)動的電機直接控制。因此收、放卷驅(qū)動器都工作于轉(zhuǎn)矩工作模式。對于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動作用的冷卻輥上沒有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動薄膜；收、放卷張力相差較大時，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅(qū)動控制方面的難題。