電鍍設備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
2、鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應具有規(guī)定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。
5、電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設備大工作噪聲應不大于80dB(A)。
9、相對濕度(RH)應不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

綠色環(huán)保產業(yè)是必然的發(fā)展趨勢，造成嚴重污染的化學電鍍終會退出歷史舞臺，取而代之的是環(huán)保電鍍設備。我們公司及時掌握行情走向，不斷引進環(huán)保、、的設備。

高頻電鍍設備是一種非常昂貴的設備，高頻電鍍設備的分類方法主要從滑環(huán)原理方面來分類的，從電鍍原理可知，電鍍電源一定是直流電源或脈沖電源。各類鍍槽對電源的要求也不太相同，電鍍時滑環(huán)的電流、電壓的應控制在一定的誤差范圍內。
水電鍍工藝是指在電鍍流程中需要對電鍍鍍件進行漂洗工序的電鍍類型。電鍍電源主要是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設備。在晶閘管整流器中主要應用“整流”技術，在高頻開關電源中既應用“整流”技術又應用“逆變”技術。