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日照回收色漿設備

更新時間:2025-09-24 [舉報]

研磨介質填充率從40%增加至75%時,運行電流曲線呈上升趨勢,反映砂磨機中的研磨介質得到充分攪動,能量需求變化大;填充率在75%-85%,運行電流曲線變化平穩(wěn),反映砂磨機中的介質達到一個平衡點,能量需求穩(wěn)定;填充率大于85%,運行電流曲線變化呈下降趨勢,反映砂磨機中的研磨介質過量,研磨介質與分散盤之間有滑動現(xiàn)象,分散盤不能帶動所有研磨介質運動,能量需求降低。因此,根據(jù)砂磨機的電流變化曲線可知,研磨介質適宜的填充率為80%。

以達到外表平坦,使分散在液體中的固體粒子微?;T黾臃瓷渎?,發(fā)生光澤并提高遮蓋率,如油漆,油墨,色膏等。 以提高反應速率及均勻程度,使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹脂中添加粒狀之硬化劑,或化學反應中粉粒狀之原料。延長沉淀時間,懸浮在液體中之微小粒子,達到臨時懸浮之目的,如水懸性農藥,可增加散布面積延長藥效,或果汁如芭藥汁等等。

傳統(tǒng)砂磨機使用的縫隙環(huán)(很小的過流面積)及靜態(tài)篩網很難分離小尺寸介質分離!所以越來越多的使用動態(tài)離心分離系統(tǒng)。分離轉子帶動介質旋轉而產生的離心力使介質被甩向轉子外周圍,而轉子中心主要是料漿,而將分離篩網布置在轉子中心,料將可以順利的通過篩網縫隙而流出,不會發(fā)生堵塞及磨損。所以將干法氣流分級原理用于砂磨機介質分離是砂磨機發(fā)展史上的技術飛躍!

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