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基本介紹編輯1、主機部分：機架，雙立柱\雙層水冷式結(jié)構(gòu)爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)\坩堝提升及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動爐壓檢測控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進(jìn)口IG及超快恢復(fù)二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構(gòu)成新一代高頻開關(guān)電源。采用移相全橋軟開關(guān)（ZVS）及CPU控制技術(shù)，提高了電能轉(zhuǎn)換效率，不需要功率因數(shù)補償裝置。3、計算機控制系統(tǒng)：采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機，配備大屏幕觸摸式HMI人機界面、高像素CCD測徑ADC系統(tǒng)和具有知識產(chǎn)權(quán)的“全自動CZ法晶體生長SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”，可實現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉(zhuǎn)肩—等徑—收尾—停爐全過程自動控制。

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單晶爐構(gòu)成編輯=提拉頭：主要由安裝盤 減速機 籽晶腔 劃線環(huán) 電機 磁流體 籽晶稱重頭 軟波紋管等其他部件組成/副室：主要是副室筒以及上下法蘭組成/ 爐蓋：副室連接法蘭，翻板閥，觀察窗 抽真空管道 組成/爐筒：包括取光孔下爐筒：包括抽真空管道/底座機架：全鑄鐵機架和底座/坩堝下傳動裝置：主要由磁流體 電機 坩堝支撐軸 減速機 軟波紋管 立柱 上下傳動支撐架 導(dǎo)軌 等部件組成/分水器已經(jīng)水路布置：包括分水器，進(jìn)水水管，若干膠管 水管卡套等/管道布置：質(zhì)量流量計 3根以上的柔性管 不銹鋼管 3個壓力探測器 高密封性卡套 等部件/真空泵以及真空除塵裝置：油壓真空泵 水環(huán)真空泵 過濾器 真空管道 硬波紋管等/電源以及電控柜：電源柜 濾波柜 控制柜 以及連接線分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，基于ANSYS軟軸型單晶爐提拉系統(tǒng)晃動分析\人工晶體是太陽能光伏發(fā)電產(chǎn)業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展所需的核心原材料,單晶爐是制造人工晶體的設(shè)備,目前的單晶爐大部分采用軟軸提拉系統(tǒng)。由于受到液/固相變規(guī)律的制約,單晶爐在實際工作中要求提拉機構(gòu)既要做旋轉(zhuǎn)運動,又要做上升運動,同時還要保持速度穩(wěn)定,對中性好,不能出現(xiàn)蠕動和擺動。提拉系統(tǒng)的晃動會引起生長瞬間微觀擴(kuò)散層的變化,造成有效分凝系數(shù)的變動,導(dǎo)致微觀摻雜劑濃度分布的徑向不均勻,引起對流情況不穩(wěn)定,導(dǎo)致生長時固液界面過冷度的變化,為枝晶生長提供條件[1],會嚴(yán)重地影響單晶體的內(nèi)在品質(zhì)。