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單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計與分析1 引 言半導體材料是半導體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導體硅。當今 95%以上的半導體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長開始時 ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對晶體的提拉速度有十分嚴格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進行研究有實際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運動是靠驅(qū)動電機通過減速器 ,再由齒輪齒條機構(gòu)帶動的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運動 ,而且當提拉負載增大引起線速度為零時 ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動。在實際單晶爐中 ,對提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實現(xiàn)無級可調(diào) ,線性精度大于± 2 %藍寶石長晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長晶爐回收，多晶長晶爐回收，臥式長晶爐回收，拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶硅生長爐原理簡介單晶硅生長爐的特點\單晶硅生長爐是通過直拉法生產(chǎn)單晶硅的制造設(shè)備。主要由主機、加熱電源和計算機控制系統(tǒng)三大部分組成。1、主機部分：機架，雙立柱\雙層水冷式結(jié)構(gòu)爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)\坩堝提升及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動爐壓檢測控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進口IG及超快恢復二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構(gòu)成新一代高頻開關(guān)電源。采用移相全橋軟開關(guān)（ZVS）及CPU控制技術(shù)，提高了電能轉(zhuǎn)換效率，不需要功率因數(shù)補償裝置。3、計算機控制系統(tǒng)：采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機，配備大屏幕觸摸式HMI人機界面、高像素CCD測徑 ADC系統(tǒng)和具有知識產(chǎn)權(quán)的“全自動Cz法晶體生長SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”，可實現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉(zhuǎn)肩—等徑—收尾—停爐全過程自動控制。
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具體實施方式為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實施例并結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細的說明，一種連續(xù)拉晶單晶爐，它包括括底座1、主爐室2、副爐室3、下驅(qū)動裝置4和上驅(qū)動裝置5，所述主爐室2和下驅(qū)動裝置4均安裝在底座1上，所述主爐室2內(nèi)設(shè)置有爐室坩堝21，所述下驅(qū)動裝置4和主爐室坩堝21相連，以便通過下驅(qū)動裝置4驅(qū)動主爐室坩堝21升降，所述副爐室3和主爐室2相連通，所述上驅(qū)動裝置5安裝在副爐室3的上端，以便通過上驅(qū)動裝置5驅(qū)動拉晶，其特征在于，它還包括：外部加料器6，所述外部加料器6內(nèi)設(shè)置有加料腔61，所述加料腔61內(nèi)設(shè)置有加料坩堝62，所述外部加料器6的蓋裝有上蓋63；
