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負性光刻膠(NegativeToneResist)ma-N2403

更新時間:2025-10-03 [舉報]

品牌
產(chǎn)地型號曝光應用特性對生產(chǎn)量的影響
Futurrex美國NP9–250Pi線曝光用粘度增強負膠系列

在設計制造中替代基于聚異戊二烯雙疊氮(Polyioprene-Bisazide)的負膠。



在濕刻和電鍍應用時很強的粘附力;很容易用去膠液去除。    


單次旋涂厚度范圍如下:﹤0.1~200 μm可在i、g以及h-line波長曝光


避免了基于有機溶劑的顯影和沖洗過優(yōu)于傳統(tǒng)正膠的優(yōu)勢:控制表面形貌的線寬 任意甩膠厚度都可得到筆直的側(cè)壁;

單次旋涂即可獲得200 μm膠厚

厚膠同樣可得到的分辨率

150 ℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間;

的感光度進而增加曝光通量

更快的顯影,100 μm的光刻膠顯影僅需6 ~ 8分鐘光刻膠曝光時不會出現(xiàn)氣泡

可將一種顯影液同時應用于負膠和正膠;

不必使用增粘劑如HMDS



NP9–1000P
NP9–1500P
NP9–3000P
NP9–6000P
NP9–8000
NP9–8000P
NP9–20000P
NP9G–250Pg和h線曝光用粘度增強負膠系列
NP9G–1000P
NP9G–1500P
NP9G–3000P
NP9G–6000P
NP9G–8000
Micro Resist德國ma-N 400寬帶或i線曝光0.5 ~ 20 μm膠厚


非常適合作為刻蝕掩模的抗干刻、濕刻性能;地利用PVD和lift-off加工進行圖案轉(zhuǎn)移能力;的電鍍性能(酸和堿性鍍液中*的穩(wěn)定性);光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性;堿性水溶液下顯影;

于UV壓印和UV成型
OrmoComp? 在紫外線固化后具有類似于玻璃的材料性能,是用于各種圖案尺寸和組件尺寸的標準產(chǎn)品

OrmoClear?系列在UV固化后具有類似于玻璃的材料性能,并且由于在UV曝光期間體積收縮非常小,因此適用于尺寸大于100 μm的組件

用于紫外線壓印和紫外線成型
OrmoClear?FX在UV固化后具有類似于玻璃的材料性能,它針對具有不同圖案尺寸和尺寸的微光學和納米光學組件進行了優(yōu)化

OrmoStamp?在紫外線固化后具有類似于玻璃的性能,并設計用于制造具有出色圖案保真度的透明聚合物工作印模,基于紫外線和熱壓印的納米壓印光刻

特征:
高度透明,可用于低至350 nm的近紫外線和可見光
高熱穩(wěn)定性和機械穩(wěn)定性

應用領域
模制的光柵和棱鏡
微透鏡和微透鏡陣列
光耦合器和連接器
微流體系統(tǒng)
單個元素或晶圓規(guī)模

標簽:光刻膠
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