3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關予抽，開前機和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

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離子鍍膜，一個精密的工藝過程，其核心是離子濺射鍍膜。對于導電靶，偏壓電源扮演了關鍵角色，采用直流電場的精密調控，確保陰極表面的電子被加速，進而轟擊氣體分子，引發(fā)電離現(xiàn)象。這個過程中，電子被電場驅動，形成雪崩效應，直至氣體被擊穿，形成穩(wěn)定的電離電流，進而驅動離子加速，撞擊靶材，將原子釋放并沉積在樣品表面，形成所需涂層。

偏壓電源，就像熒光燈中的核心組件，它通過高頻轉換電路，以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細調整通過改變高頻轉換電路的輸入電壓實現(xiàn)，穩(wěn)壓性能高達1%。這種設計允許在工藝所需電壓的同時，通過調整脈沖寬度來控制工件的加熱效果，適用于各種涂層需求，從工具保護到裝飾美化。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質過多，一般純度應在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達標，都要達到10—7倍Pa。（不準確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項目的潛在設置不合理。真空擴散泵油應更換。調節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應該調整。

真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用

真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設備，工作過程中有高頻電流過程，電導會在反復過程中產生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設備及時地進行冷卻，避免設備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產品不同進行溫度調節(jié)，并保持相對恒溫，反復鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設備來準確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產控溫中，根據真空鍍膜加工的實際需求，選用相應規(guī)格的冷水機設備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調節(jié)是經濟有效的解決方案。

利摘要顯示，本申請關于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機構，滑動機構上安裝有驅動機構以及加料機構，驅動機構的動力輸出端與加料機構傳動連接；加料機構的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構內，加料機構與外部管式爐的進料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構，攪拌機構將儲料罐內的粉料均勻的輸送至加料機構內。實現(xiàn)了在CVD過程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進入管式爐以進行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達到了實時動態(tài)調整進料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復合鍍膜的工藝需求。