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東莞望牛墩正規(guī)電鍍線回收?qǐng)?bào)價(jià)

更新時(shí)間:2025-09-24 [舉報(bào)]

單金屬電鍍至今已有170多年歷史,元素周期表上已有33種金屬可從水溶液中電沉積制取。常用的有電鍍鋅、鎳、鉻、銅、錫、鐵、鈷、鎘、鉛、金、銀等l0余種。在陰極上同時(shí)沉積出兩種或兩種以上的元素所形成的鍍層為合金鍍層。合金鍍層具有單一金屬鍍層不具備的組織結(jié)構(gòu)和性能,如非晶態(tài)Ni—P合金,相圖上沒(méi)有的各蕊sn合金,以及具有特殊裝飾外觀,特別高的抗蝕性和優(yōu)良的焊接性、磁性的合金鍍層等。

復(fù)合鍍是將固體微粒加入鍍液中與金屬或合金共沉積,形成一種金屬基的表面復(fù)合材料的過(guò)程,以滿足特殊的應(yīng)用要求。根據(jù)鍍層與基體金屬之間的電化學(xué)性質(zhì)分類(lèi),電鍍層可分為陽(yáng)極性鍍層和陰極性鍍層兩大類(lèi)。凡鍍層金屬相對(duì)于基體金屬的電位為負(fù)時(shí),形成腐蝕微電池時(shí)鍍層為陽(yáng)極,故稱(chēng)陽(yáng)極性鍍層,如鋼鐵件上的鍍鋅層;而鍍層金屬相對(duì)于基體金屬的電位為正時(shí),形成腐蝕微電池時(shí)鍍層為陰極,故稱(chēng)陰極性鍍層,如鋼鐵件上的鍍鎳層和鍍錫層等。

如今,各種電鍍?cè)O(shè)備和配置基本上都是以單一鍍槽為單元的配置.其中除了滾鍍應(yīng)用了機(jī)械操作外,其他既可以是手工生產(chǎn)裝置,也可以是自動(dòng)生產(chǎn)線上可用的裝置。 這種自動(dòng)線會(huì)有很多傳感器監(jiān)測(cè)各種參數(shù),特別是電鍍工藝參數(shù),比如電流密度、溫度、pH值等,都應(yīng)該在正常范圍內(nèi)波動(dòng),當(dāng)變動(dòng)值超過(guò)規(guī)定的工藝范圍,被監(jiān)測(cè)到的訊號(hào)會(huì)轉(zhuǎn)化為相應(yīng)的設(shè)備動(dòng)作,向鍍液內(nèi)補(bǔ)充相應(yīng)的原材料.可以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)補(bǔ)加的成分包括主鹽溶液(將主鹽先溶解在一定量的蒸餾水中,由控制閥在接受到相關(guān)指令后再排除)、輔助鹽溶液、pH調(diào)節(jié)劑、光亮劑、添加劑等。如果是采用陽(yáng)極籃,則陽(yáng)極材料要選用角狀或球狀陽(yáng)極,這時(shí)也可以實(shí)現(xiàn)陽(yáng)極材料的自動(dòng)補(bǔ)加。

全自動(dòng)電鍍生產(chǎn)線的控制系統(tǒng)現(xiàn)在已經(jīng)采用PC機(jī)控制,將確定的工藝流程編程后輸入電腦,即可進(jìn)行全自動(dòng)的控制。 電鍍生產(chǎn)線產(chǎn)量雖然大,但要經(jīng)常變換產(chǎn)品的電鍍加工。這時(shí)不僅上、下掛具是人工操作,而且起槽和轉(zhuǎn)槽的流程都是人工操作控制開(kāi)關(guān)來(lái)完成.而半自動(dòng)線由于變通性強(qiáng),而又有較率和產(chǎn)能,因此半自動(dòng)線生產(chǎn)是當(dāng)前國(guó)內(nèi)電鍍生產(chǎn)線中的主流設(shè)備。 當(dāng)將滾鍍機(jī)連成一條生產(chǎn)線時(shí),也可以由自動(dòng)控制系統(tǒng)來(lái)進(jìn)行控制而形成自動(dòng)或半自動(dòng)滾鍍生產(chǎn)線.滾鍍生產(chǎn)線在標(biāo)準(zhǔn)件生產(chǎn)和電子連接器配件生產(chǎn)中有著廣泛應(yīng)用,并且其自動(dòng)化程度將越來(lái)越高。

滾鍍滾鍍自動(dòng)線也有環(huán)形機(jī)械或液壓式自動(dòng)線與直線龍門(mén)式自動(dòng)線兩大類(lèi)。環(huán)形機(jī)械式適宜于傾斜自動(dòng)裝卸的鐘型滾筒高速電鍍?cè)O(shè)備(板材、線材)和選擇性電鍍?cè)O(shè)備隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和電子電鍍的進(jìn)步。對(duì)高速電鍍生產(chǎn)自動(dòng)線。選擇性電鍍生產(chǎn)線的需求增多.大多數(shù)是技術(shù)與制造能力更大的公司承接。

電鍍電源電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過(guò)程中重要的輔助設(shè)備。國(guó)內(nèi)大量應(yīng)用的還是硅整流器和可控硅整流器,分為調(diào)壓器調(diào)壓、磁飽和電抗器調(diào)壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流,一般為12V(鍍鉻選用18V),電流從100A至20000A都有可控硅調(diào)壓的硅整流器只有在負(fù)荷較高時(shí)渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應(yīng)用。

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