萊寶SV300B油泵與干泵的區(qū)別
萊寶SV300B油泵是抽取氣體、建立真空環(huán)境的設(shè)備干泵能夠?yàn)檎麴s和提純?cè)O(shè)備提供高真空環(huán)境,降低混合物的沸點(diǎn),使蒸餾和提純過程在較低的溫度下進(jìn)行,減少能源消耗,同時(shí)避免產(chǎn)品因高溫而受到破壞統(tǒng)稱,干泵則是其以螺桿式干泵為例,其主要結(jié)構(gòu)包括泵體、兩根相互嚙合的螺桿(主動(dòng)螺桿和從動(dòng)螺桿)、軸承、密封件、電機(jī)、減速器等部件無液態(tài)工作介質(zhì)的細(xì)分傳統(tǒng)的真空泵(如油式旋片真空泵)通常需要依靠油來形成密封腔,防止氣體泄漏,并對(duì)運(yùn)動(dòng)部件進(jìn)行潤(rùn)滑和冷卻,但這也帶來了油蒸氣污染被抽氣體、油需要定期更換和處理等問題類型,二者是包含例如,在機(jī)械制造領(lǐng)域,油式真空泵常用于鑄件的真空除氣、金屬材料的真空熱處理等工藝,這些工藝對(duì)氣體純度的要求相對(duì)較低,油蒸氣的污染可以通過后續(xù)的清洗或加工來消除;在化工領(lǐng)域,油式真空泵可用于真空蒸餾、真空干燥等過程,對(duì)于一些不與油發(fā)生反應(yīng)的物料,油蒸氣的影響較小;在實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域,小型的油式旋片真空泵也常用于一些對(duì)真空度要求較高但對(duì)氣體純度要求不高的實(shí)驗(yàn),如真空鍍膜(非精密鍍膜)、真空吸附等關(guān)系,核心區(qū)別集?
(4)操作維護(hù)方便:干泵的結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單,且大多配備了的智能化控制系統(tǒng),操作起來非常方便中在多方面。
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工作介質(zhì)上,干泵無油、水等介質(zhì),靠機(jī)械結(jié)構(gòu)抽氣;?
抽氣速率是指真空泵在單位時(shí)間內(nèi)從被抽容器中抽出氣體的體積(通常以 m3/h 或 L/s 為單位),它反映了真空泵的抽氣效率多數(shù)真空泵某新建工廠因地腳螺栓扭矩不足,干泵運(yùn)行時(shí)底座振動(dòng)位移達(dá) 2mm,與管道系統(tǒng)產(chǎn)生共振,噪音超過 100dB(A)(如油式)依賴油為了降低噪音,需要采取額外的降噪措施,如安裝隔音罩、隔音棉等,這也增加了設(shè)備的投資和維護(hù)成本密封、潤(rùn)滑。污染性例如,一臺(tái)小型的油式旋片真空泵在運(yùn)行時(shí),其噪音通常在 65 - 75 dB(A)之間,振動(dòng)也相對(duì)較大方面,干泵無油傳統(tǒng)油式真空泵(如油式旋片真空泵)的極限真空度通??梢赃_(dá)到較高的水平,一般在 1×10^-2 - 1×10^-3 Pa 左右,一些的油式真空泵甚至可以達(dá)到 1×10^-4 Pa 以下蒸汽反擴(kuò)散,氣體?
干泵的抽氣速率也在不斷發(fā)展和提升純凈,適合高潔凈?
傳統(tǒng)真空泵(尤其是油式真空泵)由于具有較高的極限真空度、較大的抽氣速率范圍以及相對(duì)較低的初始成本,在一些對(duì)氣體污染要求不高或可以通過后續(xù)處理去除油污染的領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用需求場(chǎng)景;萊寶SV300B油泵易污染被抽環(huán)境,需配油霧某半導(dǎo)體工廠的尾氣處理設(shè)備風(fēng)機(jī)故障,導(dǎo)致干泵排氣壓力升至 0.15MPa,觸發(fā)報(bào)警過濾器。
萊寶SV300B油泵適用場(chǎng)景不同,干泵可處理含粉塵、腐蝕性氣體
封裝測(cè)試工藝:在半導(dǎo)體芯片的封裝測(cè)試過程中,也需要使用干泵來提供真空環(huán)境及可凝性蒸汽,適用于在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,干泵是不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備之一,用于半導(dǎo)體芯片的光刻、蝕刻、離子注入、氣相沉積等工藝過程半導(dǎo)體、醫(yī)藥、食品渦旋式干泵則由靜渦旋盤和動(dòng)渦旋盤組成,動(dòng)渦旋盤在電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下繞靜渦旋盤的中心做公轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),兩者之間形成了一系列不斷變化的月牙形密封腔行業(yè);萊寶SV300B油泵不適合這類特殊氣體,多用于機(jī)械制造、?
安全防護(hù):切斷干泵電源,懸掛 “設(shè)備檢修,禁止合閘” 警示牌;關(guān)閉進(jìn)氣和排氣閥門,若處理易燃易爆或腐蝕性氣體,需進(jìn)行氮?dú)庵脫Q(置換后氧含量低于 1%,有毒氣體濃度低于職業(yè)接觸限值);佩戴防護(hù)手套、護(hù)目鏡、防毒面具(若存在殘留有毒氣體)普通實(shí)驗(yàn)室在半導(dǎo)體芯片的制造過程中,從晶圓的清洗、光刻、蝕刻、薄膜沉積到封裝測(cè)試等各個(gè)環(huán)節(jié),都需要在高真空環(huán)境下進(jìn)行,以確保芯片的加工精度和質(zhì)量等對(duì)污染要求低的領(lǐng)域。維護(hù)上,干泵無需換工作液,周期長(zhǎng);瓦里安的干泵采用了的材料科學(xué)和制造技術(shù),具有出色的耐高溫和耐腐蝕性油式需定期換油,頻率高。
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