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專利文獻CN1205362C公開了 一種直拉硅單晶爐熱場的氣流控制方 法及裝置，其包括在單晶爐晶體生長室內的石墨加熱器和保溫筒間裝有密 封導氣裝置，使含有一氧化硅的氣體的氣流經(jīng)密封導氣裝置的導氣管 及排氣口，在真空泵的作用下，排出爐外。密封導氣管裝置由導氣管、底 座、密封環(huán)、排氣口所組成，安裝在石墨加熱器和保溫筒之間。上述現(xiàn)有技術的不足之處在于單晶爐的坩堝支持器下方的混合氣體 不能有效的排出，從而使混合氣體中的一氧化硅對加熱器和坩堝進行腐蝕， 影響單晶爐的使用壽命。且其向爐內充入時的充氣氣壓在1. 3xi0a 以上，導致其流量較大，故而消耗量大，生產(chǎn)成本較高。

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本發(fā)明可通過加料器升降驅動裝置和加料器旋轉驅動裝置將外部加料器移出工作位并旋開，進而方便拆爐和清理，本發(fā)明的加料器升降驅動裝置和加料器旋轉驅動裝置配上工裝還可以吊裝主爐室的零部件；、本發(fā)明可通過副爐室升降驅動裝置和副爐室旋轉驅動裝置驅動副爐室移動，并在副爐室移取晶位的過程中，通過電動接晶托防止晶棒掉落，安全；、當不再繼續(xù)加料時，通過化料器升降驅動裝置將外部化料器提升不干涉主爐室坩堝上升的位置，并通過化料器旋臂的旋轉旋開外部化料器，進而方便拆爐和清理；、本發(fā)明通過減震裝置對下驅動裝置進行減震，使拉晶時下驅動裝置不受外界震動影響，進而保晶棒質量。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，浮力提拉單晶爐提拉機構特性分析\一、引言 浮力提拉單晶爐(簡稱FTD)是利用浮力原理設計成的提拉式單晶爐帕,十多年來,用它先后生長成功了多種晶體〔2一5〕。這種爐子容易制造,成本低,易于推廣,目前國內已有幾個廠家使用它生產(chǎn)泥酸鏗單晶。作為一種發(fā)明,FTD也受到肯定和重視?？墒?FTD在問世以后,卻沒有進行深入探討。雖然FTD的設計有過幾次變化,但由于沒有掌握設計的則,致使FTD存在不同程度的提拉不均勻現(xiàn)象,嚴重地影響了它的推廣普及。為了改善它的提拉特性,我們研究了FTD浮力提拉原理,對多臺FTD作了分析對比,由此找出了提拉不均勻性產(chǎn)生的根源;明確了FTD提拉機構的設計要領。希望這-一卜作能夠推動FTD的發(fā)展.并有助于單晶的生長研究和生產(chǎn)。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的產(chǎn)生習C^l 奮幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。}