3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關(guān)，延時、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關(guān)高閥、前級、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達(dá)HV2000--2500。

利摘要顯示，本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機(jī)構(gòu)，滑動機(jī)構(gòu)上安裝有驅(qū)動機(jī)構(gòu)以及加料機(jī)構(gòu)，驅(qū)動機(jī)構(gòu)的動力輸出端與加料機(jī)構(gòu)傳動連接；加料機(jī)構(gòu)的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機(jī)構(gòu)內(nèi)，加料機(jī)構(gòu)與外部管式爐的進(jìn)料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機(jī)構(gòu)，攪拌機(jī)構(gòu)將儲料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機(jī)構(gòu)內(nèi)。實現(xiàn)了在CVD過程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進(jìn)入管式爐以進(jìn)行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達(dá)到了實時動態(tài)調(diào)整進(jìn)料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。

1）所需設(shè)備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進(jìn)片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結(jié)構(gòu)：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設(shè)計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機(jī)人機(jī)交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設(shè)計。
　　6.人機(jī)對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機(jī)對話，及時對生產(chǎn)過程進(jìn)行必要干預(yù)。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進(jìn)氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴(kuò)散泵組或分子泵組+機(jī)械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設(shè)施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的卷繞控制要求的轉(zhuǎn)矩控制，以般采用直流驅(qū)動，但是隨著交流驅(qū)動技術(shù)的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機(jī)或交流異步電機(jī)驅(qū)動。丹佛斯FC302系列驅(qū)動器具有伺服級的驅(qū)動性能，驅(qū)動交流異步電機(jī)也有實現(xiàn)平穩(wěn)的轉(zhuǎn)矩控制，為這個行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設(shè)置幾個簡單的參數(shù)，就能滿足實際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的傳動結(jié)構(gòu)：
　　放卷轉(zhuǎn)向為正
　　放卷轉(zhuǎn)向為負(fù)
　　3驅(qū)動懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的典型傳動結(jié)構(gòu)，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺FC302驅(qū)動，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺FC302驅(qū)動，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺FC302驅(qū)動，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉(zhuǎn)向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時有正、反兩種轉(zhuǎn)向，對應(yīng)反、正兩種轉(zhuǎn)矩。

　　真空鍍膜機(jī)傳動系統(tǒng)的特點：
　　1.由于真空室狹小，無法安裝張力檢測裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅(qū)動的電機(jī)直接控制。因此收、放卷驅(qū)動器都工作于轉(zhuǎn)矩工作模式。對于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動作用的冷卻輥上沒有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動薄膜；收、放卷張力相差較大時，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅(qū)動控制方面的難題。