金剛石拋光液是利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時(shí)不易對(duì)工件產(chǎn)生劃傷，它主要用于蘭寶石襯底、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。單晶金剛石拋光液具有良好的切削力，加工成本相對(duì)較低，它被廣泛應(yīng)用于超硬材料的研磨拋光。納米金剛石拋光液是利用納米金剛石球形狀和細(xì)粒度粉體能達(dá)到的拋光效果，不僅具有良好的分散穩(wěn)定性，還能保持長(zhǎng)時(shí)間不沉降，并且粉體在分散液中能不發(fā)生團(tuán)聚，它主要用于硬質(zhì)材料的拋光過程，可使被拋表面粗糙度低于0.2nm。

金剛石噴霧拋光劑是由金剛石微粉制成的液體拋光劑。金剛石噴霧拋光劑廣泛應(yīng)用于寶石、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金及各類金屬的高光亮度拋光，用于金相試樣拋光時(shí)，更加凸顯其特的性，能夠使試樣在短時(shí)內(nèi)更真實(shí)地顯示其金相組織。將金剛石微粉制成液體狀態(tài)有利于以霧狀噴灑出的金剛石顆粒在拋光織物表面均勻分布，且對(duì)拋光布的濕潤(rùn)性好。拋光不同的材料可選用不同粒度的拋光劑進(jìn)行拋光。

金剛石有多晶和單晶兩種，對(duì)于金相應(yīng)用，兩種都可以使用，但多晶金剛石的切削能力更強(qiáng)，是單晶的2-3倍，甚至更多。對(duì)于要求較高，為了獲得較好的制備結(jié)果，應(yīng)使用多晶金剛石。多晶金剛石隨著時(shí)間分解，連續(xù)產(chǎn)生很多小的磨粒邊緣，可提供非常高的材料去除率的同時(shí)僅產(chǎn)生很淺的劃痕。單晶金剛石隨著時(shí)間的推移會(huì)越來越圓，失去其磨削能力。

眾所周知，金相試樣制備過程中所使用的金剛石產(chǎn)品，大多數(shù)使用金剛石懸浮溶液，當(dāng)遇到易嵌入金剛石顆粒的樣品時(shí)，則選用金剛石拋光膏。 大多數(shù)材料的研磨拋光都使用水基的金剛石拋光液。對(duì)水敏感的材料，應(yīng)選用油基拋光液或拋光膏，使用油基拋光液，清洗上會(huì)稍微麻煩一些。

金剛石拋光劑多以金剛石拋光懸浮液、金剛石拋光膏和金剛石噴霧劑供貨。其常用粒度有15μm、9μm、6μm、3μm和1μm，使用時(shí)可遵循下道拋光顆粒尺寸為上道拋光顆粒的1/3規(guī)則。其中15μm（相當(dāng)于P1200砂紙）一般用來代替較細(xì)砂紙的研磨。一般金屬材料在研磨至P1200砂紙后可直接用3μm金剛石進(jìn)行拋光。

優(yōu)良的制備工藝使其具備分散的優(yōu)良性能。研磨液中的金剛石磨粒能較長(zhǎng)時(shí)間處于均勻懸浮的狀態(tài)，具備優(yōu)良的分散性，且能很好的附著在磨拋載體(如磨盤，砂紙，拋光布)上，因其粘結(jié)性使磨拋設(shè)備即使在高速運(yùn)轉(zhuǎn)中金剛石磨粒也不會(huì)流失，損耗極低。高的磨削率和去除率，與普通拋光液相比，在拋質(zhì)量等同情況下，用量節(jié)省30%，時(shí)間節(jié)省60%。

使用方法:
1.使用前拋光織物需要用水浸透，避免摩擦過程中發(fā)熱;
2.初次使用時(shí)應(yīng)搖勻再噴涂;初次噴涂時(shí)，應(yīng)延長(zhǎng)噴涂時(shí)間
3.新織物噴灑時(shí)間相應(yīng)延長(zhǎng)，以使織物的磨削力更好

金剛石拋光劑采用的金剛石微粉，以介質(zhì)與助劑，融物理與化學(xué)作用于一體研制而成；粒度分布均勻，顆粒形貌呈球形八面體，故研磨效果好、不易產(chǎn)生劃痕；硬度高，刃口尖銳鋒利，對(duì)硬軟材料都有良好的研磨作用，只產(chǎn)生研磨作用而無滾壓，不產(chǎn)生擾亂層；主要用于機(jī)械研磨、拋光硬質(zhì)合金、合金鋼、高碳鋼等高硬材料制件以及金相和巖相試樣的精研等。

多晶金剛石由許多細(xì)小的晶體組成，它們的晶棱提供了大量的刀刃。在試樣制備過程中，這些晶棱有利于磨削，并在試樣表面只留下淺的劃痕。單晶金剛石是塊狀的，只有幾條晶棱。這種金剛石磨削的同時(shí)，試樣表面的劃痕樣式更加反復(fù)無常。對(duì)試樣的要求越高，就越選擇P型金剛石,但是M類型金剛石更適合多用途磨拋。