真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長抽真空時(shí)間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補(bǔ)充： 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。 追問： 不好意思，我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時(shí)間 2, 鍍膜時(shí)有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時(shí)間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。?

對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。