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鍍膜設(shè)備應(yīng)該在高真空下工作,真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時(shí)鍍膜設(shè)備的真空值抽不出來(lái)或是真空值不太好,可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統(tǒng)式的氣密性試驗(yàn)方式應(yīng)該鍍膜設(shè)備關(guān)機(jī),充氮,再在猜測(cè)有漏的位置涂上肥皂泡,整個(gè)過(guò)程用時(shí)費(fèi)事極易錯(cuò)判,針對(duì)微小的泄露沒(méi)法檢驗(yàn)。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運(yùn)用氦氣做為示蹤氣體,小漏率低于5E-13Pam3/s,安全環(huán)保,檢漏時(shí)無(wú)需關(guān)機(jī),立即在機(jī)械泵的旁通連接測(cè)漏儀便可以迅速有效的進(jìn)行檢驗(yàn)了。
有些真空鍍膜機(jī)真空計(jì)的讀數(shù),與氣體種類有關(guān),比如熱偶計(jì),電離真空計(jì)。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì),這些真空計(jì)便成了探測(cè)器,一般鍍膜機(jī)上都有真空計(jì),使用起來(lái)很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計(jì)的示漏物質(zhì)有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計(jì)反應(yīng)較慢,觀察要很仔細(xì)。用于電離計(jì)的示漏物質(zhì)有氦,氬,酒精等。
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。
真空鍍膜機(jī)工作的環(huán)境要求:
真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。
這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣,要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周,油封式機(jī)械泵不宜抽除對(duì)金屬有腐蝕性、對(duì)真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當(dāng)大量抽除可凝性氣體時(shí),對(duì)泵油的污染會(huì)更加嚴(yán)重,結(jié)果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。
長(zhǎng)期回收真空鍍膜機(jī)鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備。
主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成,其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?,材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大,蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射,碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護(hù)與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。
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