多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗(yàn)等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機(jī)光電器材和電路的制備。

聚乙烯由于真空鍍膜習(xí)慣差，但經(jīng)過改造后仍是能夠用于真空鍍膜的，但只能出產(chǎn)等級低的包裝產(chǎn)品或隔熱產(chǎn)品，聚丙烯比聚乙烯受熱更穩(wěn)定，并且十分輕，所以其利用價(jià)值比較高，不過聚丙烯與膜層的結(jié)合性比較差，所以表面處理后才能進(jìn)行鍍膜，膜層作裝飾作為，使產(chǎn)品更漂亮。

真空鍍膜機(jī)的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機(jī)根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無機(jī)態(tài)或有機(jī)態(tài)。

在鍍膜的過程中，由于工件內(nèi)氣體的受熱膨脹，很容易使已經(jīng)鍍膜的薄膜開裂。當(dāng)然，這種情況的概率取決于工件本身的物理性質(zhì)。比如容易膨脹的，比如塑料，概率就比較高，而對于堅(jiān)硬的材料，比如金屬，概率就比較低，但也不能忽略。因此，工件的除氣是非常必要的。

與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機(jī)真空度的一種檢查方法，簡稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統(tǒng)抽氣時(shí)，真空室內(nèi)壓力降低。內(nèi)外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。