內(nèi)置電機，工作時噪音極底大容量錐型研磨腔體設(shè)計更適用于大批量的中,高粘度產(chǎn)品的分散及超細研磨。錐型腔體內(nèi)研磨珠隨反射角的改變,加強了研磨珠的往返運動，使研磨細度更均勻。采用定子、轉(zhuǎn)子及前端板冷卻,更高的擴大冷卻面積,適合物料溫度敏感的產(chǎn)品;特殊的分離結(jié)構(gòu),可選用較細小的研磨珠;研磨腔內(nèi)和物料接觸的零部件材質(zhì)均采用特殊高耐磨材質(zhì)?？蛇x配全自動控制系統(tǒng)，監(jiān)控整個研磨過程，即時顯示各項參數(shù)

棒式珠磨機是一種水平濕式連續(xù)性生產(chǎn)之超微粒分散機。將預(yù)先攪拌妥之原料送入主機之研磨槽，研磨槽內(nèi)填充適量之研磨媒體，如玻璃珠等經(jīng)由分散葉片高速轉(zhuǎn)動，賦予研磨媒體以足夠之動能，與被分散之顆粒撞擊產(chǎn)生剪力，達到分散的效果，再經(jīng)由特殊之分離裝置，將被分散物與研磨媒體分離排出。因為不必像三滾筒一樣須要高度的操作技巧，即可得到均一而優(yōu)良的品質(zhì)，又可大量連續(xù)生產(chǎn)，因此既可提又可降低成本，亦可適用于高粘度物質(zhì)之分散，因之對油漆、油墨、醫(yī)藥、食品、化妝品、農(nóng)藥等工業(yè)均可應(yīng)用。

砂磨機是一種廣泛應(yīng)用于油漆涂料、化妝品、食品、日化、染料、油墨、藥品、磁記錄材料、鐵氧體、感光膠片等工業(yè)領(lǐng)域的研磨分散設(shè)備。砂磨機與球磨機、輥磨機、膠體磨等研磨設(shè)備相比較，具有生產(chǎn)、連續(xù)性強、成本低、產(chǎn)品細度高等優(yōu)點 。應(yīng)用于涂料、染料等行業(yè)。

納米砂磨機電機安裝在簡潔的機器框架上，通過V型皮帶來能量傳送；高精密隔離間隙具自潔功能，適用粒徑0.4~2研磨介質(zhì); 臥式納米砂磨機采用雙端面機械密封作為壓力阻抗裝置；錐形研磨腔間隙攪拌器，加工區(qū)域容積小，可降低產(chǎn)品交叉污染，易于更換產(chǎn)品；轉(zhuǎn)子、定子雙冷卻；研磨腔采用高耐磨材料；以壓力為動力的機械活塞用于改變研磨腔的體積，從而調(diào)節(jié)產(chǎn)品的質(zhì)量；控制面板整體嵌于機器框架上，所有控制鍵皆在其上；白色產(chǎn)品不會變灰。系統(tǒng)密封性好，磨損極低，散熱性好，生產(chǎn)能力高。錐形設(shè)計的研磨腔，使得磨珠在入料端沖擊強烈，物料在一進入研磨腔就大程度地得到研磨，從而得到穩(wěn)定的、細度的研磨效果。

砂磨機具有生產(chǎn)、連續(xù)性強、成本低、產(chǎn)品細度高等優(yōu)點。工藝條件差異很大，對細度要求可以適量加減研磨介質(zhì)進行調(diào)整，業(yè)主能夠根據(jù)產(chǎn)品性能需要對研磨設(shè)備進行微調(diào)。
臥式錐形砂磨機特點是設(shè)計，密閉式連續(xù)性生產(chǎn)，產(chǎn)品研磨分散細度均勻、品質(zhì)好，生產(chǎn)，雙端面機械密封，雙重保護、零泄漏，全新動態(tài)分離機構(gòu)，出料更加暢快，廣泛應(yīng)用于涂料、染料、油墨、感光材料、醫(yī)藥等行業(yè)。臥式棒銷式砂磨機是集目前國內(nèi)外同機型的精華，具有，工作連續(xù)性強，少污染，自動可靠等優(yōu)點，研磨腔采用高耐磨材料，以壓力為動力的機械活塞用于改變研磨腔的體積，從而調(diào)節(jié)產(chǎn)品的質(zhì)量，選材精良，運行平穩(wěn)，廣泛應(yīng)用于涂料、染料、油墨、感光材料、農(nóng)藥、造紙及化妝品等行業(yè)的率通用濕式超微研磨分散機械。
以達到外表平坦，使分散在液體中的固體粒子微粒化。增加反射率，發(fā)生光澤并提高遮蓋率，如油漆，油墨，色膏等。 以提高反應(yīng)速率及均勻程度，使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹脂中添加粒狀之硬化劑，或化學(xué)反應(yīng)中粉粒狀之原料。 延長沉淀時間，懸浮在液體中之微小粒子，達到臨時懸浮之目的，如水懸性農(nóng)藥，可增加散布面積延長藥效，或果汁如芭藥汁等。
運行電流是砂磨機運轉(zhuǎn)情況的主要考察指標(biāo)。主電機提供能量輸人，分散盤充分?jǐn)噭友心ソ橘|(zhì)和漿料，為其提供動能，使?jié){料充分分散研磨，達到要求的研磨效果。在實際運作過程中，砂磨機的運行電流與研磨介質(zhì)和研磨料漿的質(zhì)量成正比，要砂磨機的運行電流穩(wěn)定，就確定合理的介質(zhì)充填率、入料量和料漿黏度。介質(zhì)充填率對砂磨機運行電流的影響臥式砂磨機的研磨介質(zhì)一般采用硅酸錯珠和氧化錯珠，研磨介質(zhì)填充率是影響臥式砂磨機運行的重要因素之一。
研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時，運行電流曲線呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?，能量需求變化大；填充率?5%-85%，運行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個平衡點，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運行電流曲線變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動現(xiàn)象，分散盤不能帶動所有研磨介質(zhì)運動，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]