立驅動的兩篇攪拌漿提供了平穩(wěn)的物料循環(huán)，確保物料均勻分散，處理粘度范圍光；攪拌漿的泵吸和分散籃的離心力使研磨介質不會倒流；攪拌葉片裝在分散立軸套上，可設定佳轉速，或依物料生產工藝要求量體訂做，在研磨期間或隨時抽樣檢查物料的研磨情況，因此不需要停機即可完成調節(jié)或加入其他配方成分；

筒體部分備有冷卻或加熱裝置，以防筒內因物料、研磨介質和圓盤等相互摩擦所產生的大量的熱影響產品質量，或因送入的漿料冷凝以致流動性降低而影響研磨效能。研磨介質可用適當?shù)奶烊簧埃部捎昧６葹?.1～2毫米的人造玻璃珠。當給料粒度小于450微米時,排料粒度可達1微米以下。這種磨機在細化物料的同時,還有分散和混合作用，適于磨制染料、顏料、油漆涂料、藥物和其他懸浮液或膠懸劑等。

配有外筒移動拆裝支架，拆裝、維修十分方便。送料泵采用齒輪泵或氣動隔膜泵，送料大小調節(jié)方便，工作性能可靠。另外臥式砂磨機不用的安裝基礎，可以隨時根據(jù)需要變更安裝位置。臥式砂磨機的分類臥式砂磨機可以分為臥式錐形砂磨機和臥式棒銷式砂磨機。

研磨介質可用適當?shù)奶烊簧埃部捎昧６葹?.1～2毫米的人造玻璃珠，目前國內外砂磨機均已使用氧化鋯珠充當研磨介質，氧化鋯珠本身易清潔，硬度高，比玻璃珠及天然沙更耐磨，所以目前國內高低檔砂磨機均使用氧化鋯珠作為研磨介質。當給料粒度小于450微米時,排料粒度可達1微米以下。這種磨機在細化物料的同時,還有分散和混合作用，適于磨制染料、顏料、油漆涂料、藥物和其他懸浮液或膠懸劑等。

研磨介質填充率從40%增加至75%時，運行電流曲線呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質得到充分攪動，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機中的介質達到一個平衡點，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運行電流曲線變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質過量，研磨介質與分散盤之間有滑動現(xiàn)象，分散盤不能帶動所有研磨介質運動，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機的電流變化曲線可知，研磨介質適宜的填充率為80%。[1]

以達到外表平坦，使分散在液體中的固體粒子微?；Ｔ黾臃瓷渎?，發(fā)生光澤并提高遮蓋率，如油漆，油墨，色膏等。 以提高反應速率及均勻程度，使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹脂中添加粒狀之硬化劑，或化學反應中粉粒狀之原料。延長沉淀時間，懸浮在液體中之微小粒子，達到臨時懸浮之目的，如水懸性農藥，可增加散布面積延長藥效，或果汁如芭藥汁等等。