氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆粒可提供更細(xì)膩的拋光效果，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。

在使用氧化鋁拋光液時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)配。

2. 在拋光過(guò)程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間，以避免對(duì)材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時(shí)更換或補(bǔ)充添加。

注意事項(xiàng):

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的效應(yīng)，是在機(jī)械拋光的基礎(chǔ)上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應(yīng)的化學(xué)試劑，從而達(dá)到增強(qiáng)拋光和選擇性拋光的效果?；瘜W(xué)機(jī)械拋光液的性能是影響化學(xué)機(jī)械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對(duì)拋光效果都會(huì)產(chǎn)生很大的影響。

氧化鋁拋光液，涉及半導(dǎo)體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過(guò)程為：①備料；②磨料預(yù)處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。

氧化鋁拋光液具有以下性能：
1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；
2、磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。