磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶材信息我要推廣到這里
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鋯(Zirconium)是一種金屬元素，元素符號(hào)Zr，密度6.49g/cm3，熔點(diǎn)1852°C，沸點(diǎn)4377°C。鋯是一種銀白色過渡金屬，因其制取工藝復(fù)雜，不易被提取，所以也常被稱為“稀有金屬”。事實(shí)上，鋯在地殼中..01月02日 -
產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99. 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛刺01月28日
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鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..01月16日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..12月17日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..12月10日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..11月06日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..10月28日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..09月28日
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鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..09月18日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..08月27日
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鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..08月17日
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500.00元鈦管 我公司采用擠壓管胚，深孔鉆等加工技術(shù)，質(zhì)量得到了了客戶的好評(píng)。 規(guī)格最大我們可做到直徑160mm 內(nèi)徑130 長度4000mm， 材質(zhì);TA1 TA2 TC4, 具體的規(guī)格可根據(jù)客戶的要求來定做。04月09日
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200.00元品名：1#鎳 牌號(hào)：Ni99.96 產(chǎn)地：寶雞 鎳含量≥：99.6（%） 雜質(zhì)含量：0.4（%） 重量：不等（kg/塊） 用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻01月04日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發(fā)鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉(zhuǎn)靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產(chǎn)具有最高密度和最小平均晶..09月12日
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產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛06月01日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..06月01日
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側(cè)轉(zhuǎn)靶機(jī)制造商西安立靶，在靶設(shè)備方面可實(shí)現(xiàn)多元化制造及結(jié)合，專心研發(fā)20多錢。公司發(fā)展目標(biāo)：力爭世界靶設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商。 企業(yè)精神：真誠 務(wù)實(shí) 創(chuàng)新 高效</a>04月10日
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100.00元高純磁控濺射貴金屬鈀(Pd)鍍膜靶材及鉑合金，鈀粒，鈀板，鈀金，鈀銀合金板，鈀管旋轉(zhuǎn)靶 貴金屬靶產(chǎn)品總述： 隨著靶材在磁記錄介質(zhì)、電子半導(dǎo)體、薄膜太陽能及平面顯示等產(chǎn)業(yè)的發(fā)09月12日
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西安立靶公司是一家從事報(bào)靶自動(dòng)化產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)的高科技企業(yè)。公司憑借雄厚的技術(shù)力量和人才優(yōu)勢(shì)，不斷地開拓、創(chuàng)新，使公司在同行業(yè)中具有相當(dāng)?shù)亩群土己玫拿雷u(yù)度。公司的骨干..09月22日
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展望未來，西安立靶科工貿(mào)公司將以更加努力的姿態(tài)闊步向前，為我國軍事現(xiàn)代化及反抗處突做出自己的貢獻(xiàn)，打造世界的射擊場(chǎng)及射擊訓(xùn)練設(shè)備供應(yīng)商。展望未來，西安立靶科工貿(mào)公司將以06月18日
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