目前市場半導體加熱鍋爐分布整個北方采暖區(qū)域。它是利用PTC陶瓷空穴原理進行加熱，1834年法國科學家拍爾帕發(fā)現(xiàn)了熱電致冷和致熱現(xiàn)象－－－ 即金屬溫差電逆效應。由二種不同金屬組成一對熱電偶，當熱電偶邁入直流電流
將在電偶結點處產生吸熱和放熱現(xiàn)象，稱這種現(xiàn)象為拍爾帖效應。 而熱能以面狀的形式與分子健相結合，再以面妝形式傳遞出來，我們使用熱傳導系數(shù)高的金屬件，內部通水或者液體把熱能帶走，這樣整個加熱過程非常迅速，1至3秒即可達到表面溫度200℃左右.而且產品在應用中如果內部沒有水，也不會爆管，因為它居里溫度我們設計為230℃左右.屬于低溫運行。后期基本免維護設計，我們只換不修。使用成本低。
計算加熱器功率的步驟： 根據工藝過程，畫出加熱的工藝流程圖（不涉及材料形式及規(guī)格）。 計算工藝過程所需的熱量。 計算系統(tǒng)起動時所需的熱量及時間。 重畫加熱工藝流程圖，考慮合適的安全系數(shù)，確定加熱器的總功率。 決定發(fā)熱元件的護套材料及功率密度。 決定加熱器的形式尺寸及數(shù)量。 決定加熱器的電源及控制系統(tǒng)。
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