鍍生產(chǎn)、鍍件表面質(zhì)量好、適用的零件范圍廣等諸多性在電鍍生產(chǎn)中應用廣泛。但是隨著電鍍行業(yè)的不斷發(fā)展，對產(chǎn)量、質(zhì)量和減小污染的要求也越來越高了，全自動滾鍍設備就這這個背景下應運而生了。
以前的工廠都配有很多的機器，因為一臺機器設置的材料直徑不一樣，切不同直徑的材料要拿到相應的機器上對應調(diào)整才能切出來?，F(xiàn)在的電鍍設備科方便了，它就在一臺機器上就能完成不同直徑材料的切割，它的技術含量高，人們空余根據(jù)自己的需求自己調(diào)節(jié)直徑，就在一臺電鍍設備上就能夠完成。 電鍍設備方便、簡潔，而且它的價格也非常合理，適合了時代發(fā)展的需要，是人類生產(chǎn)力提高的表現(xiàn)。
隨著現(xiàn)代制造業(yè)的迅猛發(fā)展，電鍍加工的規(guī)模越來越大，對產(chǎn)量和效率的需求也越來越緊迫.手工生產(chǎn)早已經(jīng)不能滿足大生產(chǎn)的需要，因此，現(xiàn)代電鍍的一個特點就是采用全自動或半自動生產(chǎn)線進行生產(chǎn)。
化學鍍是一種自催化還原工藝。當鍍液中有細小固體微粒時,則成為催化還原中心,鍍液中的本含量就不高的主鹽金屬離子,不是在工件上而是在這些微粒上很快還原而消耗掉,鍍液會很快失效而報廢。只有及時通過過濾去除這些微粒,才能或延長化學鍍液的使用壽命。
電鍍電源電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過程中重要的輔助設備。國內(nèi)大量應用的還是硅整流器和可控硅整流器，分為調(diào)壓器調(diào)壓、磁飽和電抗器調(diào)壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流，一般為12V(鍍鉻選用18V)，電流從100A至20000A都有可控硅調(diào)壓的硅整流器只有在負荷較高時渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應用。
可持續(xù)發(fā)展的電鍍工業(yè)模式，是綜合了電鍍生產(chǎn)線資源的節(jié)約和環(huán)境保護、效率提高等多種因素的電鍍生產(chǎn)模式。這種模式要求電鍍設備廠不僅僅是從電鍍工藝和環(huán)境保護的角度來制定方案，而且要從合理的能源結構、資源的節(jié)省和再利用多方面為可持續(xù)發(fā)展留有充分的余地，比如，基本上將采用水的無排放技術，也就是所謂的零排放技術，即使有排水系統(tǒng)，也將改變以往只以達到排放標準為目標的排放模式，而要將水資源本身和水中的可回收金屬全部加以回收。
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