電鍍是指在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中,以被鍍基體金屬為陰極,通過電解作用,使鍍液中欲鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來,形成鍍層的一種表面加工方法。鍍層性能不同于基體金屬,具有新的特征。根據(jù)鍍層的功能分為防護性鍍層,裝飾性鍍層及其它功能性鍍層。
電鍍技術(shù)又稱為電沉積,是在材料表面獲得金屬鍍層的主要方法之一。是在直流電場的作用下,在電解質(zhì)溶液(鍍液)中由陽極和陰極構(gòu)成回路,使溶液中的金屬離子沉積到陰極鍍件表面上的過程; 電流效率 :用于沉積金屬的電量占總電量的比稱為電鍍的電流效率。
分散能力:鍍液的分散能力是指一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面布均勻的能力。
合金電鍍:兩種或兩種以上金屬離子在陰極上共沉積形成均勻細致鍍層的過程叫做合金電鍍(一般而言其小組分應(yīng)大于1%)。
整平能力:整平能力(即微觀分散能力)是指在金屬表面上形成鍍層時,鍍液所具有的能使鍍層的微觀輪廓比基體表面更平滑的能力。它表達了基體金屬的粗糙度比較小,波穴的深度小于0.5mm,波峰與波谷的距離很小的表面上鍍層分布的均勻性。
針孔或麻點:氫氣呈氣泡形式粘附在陰極表面上,阻止金屬在這些部位沉積,它只能沉積在氣泡的周圍,如果氫氣泡在整個電鍍過程中一直停留在陰極表面,則鍍好的鍍層就會有空洞或貫通的縫隙;若氫氣泡在電鍍過程中粘附得不牢固,而是間歇交替地逸出和粘附,那么這些部位將形成淺坑或點穴,在電鍍工業(yè)中通常稱它為針孔或麻點。
鼓泡:電鍍以后,當周圍介質(zhì)的溫度升高時,聚集在基體金屬內(nèi)的吸附氫會膨脹而使鍍層產(chǎn)生小鼓泡,嚴重地影響著鍍層的質(zhì)量。這種現(xiàn)象在電鍍鋅、鎘、鉛等金屬時尤為明顯。
覆蓋能力:覆蓋能力(或深鍍能力)也是鍍液的一個重要性能指標,是指在一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面全部覆蓋的能力,即在特定條件下于凹槽或深孔中沉積金屬鍍層的能力,它是指鍍層在零件布的完整程度。
氫脆:氫離子在陰極還原后,一部分形成氫氣逸出,一部分以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬(尤其是高強度金屬材料)及鍍層中,使基體金屬及鍍層的韌性下降而變脆,這種現(xiàn)象叫做“氫脆”。
電鍍所需要的設(shè)備主要是整流電源、鍍槽、陽極和電源導(dǎo)線,還有按一定配方配制的鍍液。要使電鍍過程具有科研的或工業(yè)的價值,需要對電鍍過程進行控制,也就是要按照一定的工藝流程和工藝要求來進行電鍍,并且還要用到某些輔助設(shè)備和管理設(shè)備,比如,過濾機、加熱或降溫設(shè)備、化驗設(shè)備、檢測設(shè)備等。
電鍍用的鍍槽包括電鍍生產(chǎn)中各工序的槽體。不光只是電鍍槽,還包括前處理用的除油槽、酸洗槽和清洗槽、活化槽,后處理的鈍化槽、熱水槽等。由于電鍍用槽仍然屬于非標準設(shè)備,其規(guī)格和大小有很大變通空間的設(shè)備。小到燒杯,大到水池都可以用來做鍍槽,因為只要能將鍍液裝進去而不流失的裝置,就可以做鍍槽用,就是實際電鍍工業(yè)生產(chǎn)中所用的鍍槽也是五花八門,并沒有統(tǒng)一的標準,這種狀況對加強電鍍管理是不利的。
綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)是必然的發(fā)展趨勢,造成嚴重污染的化學電鍍終會退出歷史舞臺,取而代之的是環(huán)保電鍍設(shè)備。我們公司及時掌握行情走向,不斷引進環(huán)保、、的設(shè)備。
高頻電鍍設(shè)備是一種非常昂貴的設(shè)備,高頻電鍍設(shè)備的分類方法主要從滑環(huán)原理方面來分類的,從電鍍原理可知,電鍍電源一定是直流電源或脈沖電源。各類鍍槽對電源的要求也不太相同,電鍍時滑環(huán)的電流、電壓的應(yīng)控制在一定的誤差范圍內(nèi)。
水電鍍工藝是指在電鍍流程中需要對電鍍鍍件進行漂洗工序的電鍍類型。電鍍電源主要是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設(shè)備。在晶閘管整流器中主要應(yīng)用“整流”技術(shù),在高頻開關(guān)電源中既應(yīng)用“整流”技術(shù)又應(yīng)用“逆變”技術(shù)。
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