真空度低解決方法:清潔真空室內的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導輥;檢查抽真空系統(tǒng);降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法:薄膜預干燥;延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法:提高車速;降低蒸發(fā)舟電流;降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內有雜質 解決方法:清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法:更換蒸發(fā)舟。 補充: 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了,不好意思。 追問: 不好意思,我沒有說你才疏學淺的意思- -#,我意思說就像發(fā)黃的原因有:1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3,鍍膜時間過長;噴鋁過多 4,鍍膜電流過高
3. 開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后,關予抽,開前機和
高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鐘后延時及保護燈滅,若后門未關好或水流繼電器有故障,保護燈會常亮。
3. 開高壓,高壓會達到10KV以上,調節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時,依次關高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
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離子鍍膜,一個精密的工藝過程,其核心是離子濺射鍍膜。對于導電靶,偏壓電源扮演了關鍵角色,采用直流電場的精密調控,確保陰極表面的電子被加速,進而轟擊氣體分子,引發(fā)電離現(xiàn)象。這個過程中,電子被電場驅動,形成雪崩效應,直至氣體被擊穿,形成穩(wěn)定的電離電流,進而驅動離子加速,撞擊靶材,將原子釋放并沉積在樣品表面,形成所需涂層。
偏壓電源,就像熒光燈中的核心組件,它通過高頻轉換電路,以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細調整通過改變高頻轉換電路的輸入電壓實現(xiàn),穩(wěn)壓性能高達1%。這種設計允許在工藝所需電壓的同時,通過調整脈沖寬度來控制工件的加熱效果,適用于各種涂層需求,從工具保護到裝飾美化。
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在簡易隔離式偏壓電源設計中,非對稱半橋反激電路是關鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源,類似于同步降壓調節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅動的場效應管(FET)驅動電感電容濾波器,隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用,調整濾波器輸出,保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于,電感電路中的耦合繞組和二極管設計巧妙地解決了負載電壓調節(jié)的難題,通過二極管的直流電壓調整,提升了負載調節(jié)的精度。如果采用場效應管替代,性能將進一步提升。
總結起來,真空多弧離子鍍膜機的偏壓電源是一個精密調控的系統(tǒng),它通過復雜的電路設計,確保了離子的加速和沉積過程,從而實現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源,每一環(huán)節(jié)都對終的鍍膜效果有著至關重要的影響。
真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領域,
JTPZ多功能鍍膜技術及設備(加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機),針對汽車、摩托車燈具而設計的,在一個真空室內完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜,這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學產品、磁記錄介質、軍事保護膜;防潮增透膜;防銹抗腐蝕;耐磨增硬膜。
離子滲氮:可以在輝光放電條件下,將N、C等元素滲入到零件和模具內部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性,相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控,可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件,各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮,氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積(PCVD)是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內,加入適當比例的不同工作氣體,在脈沖電壓的作用下,通過輝光放電產生均勻等離子體。在不同工藝條件下,可在被處理工件表面形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等,顯微硬度高達HV2000--2500。
1.在真空鍍膜機運轉正常情況下,開動真空鍍膜機時,先開水管,工作中應隨時注意水壓。
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時,應特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。
3.在用電子槍鍍膜時,應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
4.鍍制多層介質膜的鍍膜間,應安裝通風吸塵裝置,及時排除有害粉塵。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夾具應在通風裝置內進行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。
8.工作完畢應斷電、斷水。
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。
今天給大家分享“耐高溫黑色真空鍍膜 膜層”這個主題是因為近遇到一個和我們日常生活息息相關的項目,我們浦元真空鍍膜主打裝飾性鍍膜,膜層在智能穿戴、3C配件、鐘表首飾等領域應用比較廣泛,所以這篇文章對上述領域的五金配件廠家會比較有參考意義。大家如果有需要耐高溫黑色真空鍍膜膜層需求的可以關注下。?
? ? ? ?這個項目源起品牌方想讓產品外觀顏色更加多元化,進而想在鍋柄、側耳和提手上使用真空鍍膜工藝,所以為這個廚具品牌代工的鍋具配件加工廠就找到我們。該鍋具配件要求黑色真空鍍膜膜層在260℃高溫下4小時不變色,對了客戶的色板我們進行打樣,結果次測試230℃的時候膜層就開始發(fā)彩。和品牌方溝通研討后,我們改了工藝,第二次便順利通過了高溫烘烤測試并得到了美國品牌方的認可。其實,一開始品牌方提這個要求的時候我還是覺得挺極端的,但是考慮到使用環(huán)境后,我覺得可以理解。
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