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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。?
對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。
在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。
真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用
真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設備，工作過程中有高頻電流過程，電導會在反復過程中產生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設備及時地進行冷卻，避免設備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產品不同進行溫度調節(jié)，并保持相對恒溫，反復鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設備來準確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產控溫中，根據真空鍍膜加工的實際需求，選用相應規(guī)格的冷水機設備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調節(jié)是經濟有效的解決方案。
現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費?？刂葡到y(tǒng)調試和參數設置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅動異步電機，又能驅動同步電機，系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。
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