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等離子體源火炬電化學(xué)Hi-Wave等離子體源

更新時(shí)間1:2025-09-19 信息編號(hào):a12ilh2b6ce640 舉報(bào)維權(quán)
等離子體源火炬電化學(xué)Hi-Wave等離子體源
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供應(yīng)商 北京智聯(lián)興達(dá)科貿(mào)有限公司 店鋪
認(rèn)證
報(bào)價(jià) 面議
關(guān)鍵詞 等離子體源,等離子體源,ECR同軸等離子體源,單腔ECR等離子體源
所在地 北京市門(mén)頭溝區(qū)東辛房街88號(hào)B12-116室
吳經(jīng)理
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2年

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

科學(xué)研究:微波等離子體源在等離子體物理學(xué)、材料科學(xué)和航空航天研究中都有應(yīng)用。它們可用于研究等離子體行為、材料相互作用以及模擬太空環(huán)境。

微波等離子體源的設(shè)計(jì)和操作可能很復(fù)雜,需要仔細(xì)控制微波功率、氣體流量和壓力等參數(shù)。此外,采取適當(dāng)?shù)陌踩A(yù)防措施,因?yàn)槲⒉ㄝ椛浜透唠妷嚎赡艽嬖谖kU(xiǎn)。 總之,2.45GHz 微波等離子體源是一種強(qiáng)大的工具,在許多需要產(chǎn)生等離子體的應(yīng)用中都有應(yīng)用。它們提供了一種、靈活的方法來(lái)控制等離子體過(guò)程,從而實(shí)現(xiàn)各種工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用。

Sairem公司是法國(guó)一家專(zhuān)注于提供微波源、微波等離子體源的公司,它的微波源被廣泛應(yīng)用于PECVD法制造生長(zhǎng)金剛石設(shè)備中,等離子體源用于清洗、噴濺、蝕刻等設(shè)備中。

Sairem是一家專(zhuān)注于射頻與微波技術(shù)的公司,其微波源產(chǎn)品可應(yīng)用于各種領(lǐng)域的加熱和干燥需求,包括醫(yī)藥領(lǐng)域的藥材加熱。 在藥材加熱方面,Sairem的微波源可以提供高頻率、高功率的微波能量,用于對(duì)藥材進(jìn)行加熱處理。這種加熱方式具有快速、的特點(diǎn),可以準(zhǔn)確控制加熱溫度和加熱時(shí)間,有效提高藥材的品質(zhì)和功效。 Sairem的微波源產(chǎn)品還可以與其他設(shè)備和系統(tǒng)集成,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的藥材加熱過(guò)程,提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。 總之,Sairem的微波源在藥材加熱方面有著廣泛的應(yīng)用前景,可以滿(mǎn)足藥材加熱的需求,并提高藥材的質(zhì)量和效果。
Sairem 微波等離子體源可用于化工污染處理。它利用微波能量來(lái)加熱和處理化工廢物,例如污水、有機(jī)廢物或化學(xué)廢料。這種技術(shù)可以有效地降解有害物質(zhì),提高處理效率,并減少對(duì)環(huán)境的影響
等離子體源濺射是一種物理現(xiàn)象,指的是在等離子體能量密集區(qū)域中的離子和電子受到能量激發(fā)后從其表面飛出,造成濺射現(xiàn)象。這種現(xiàn)象常常在等離子體物理研究、薄膜沉積和半導(dǎo)體制備過(guò)程中出現(xiàn)。

等離子體源濺射通常是通過(guò)將能量注入等離子體中,激發(fā)其內(nèi)部原子或分子,使其進(jìn)入激發(fā)態(tài)。當(dāng)這些原子或分子回到基態(tài)時(shí),它們會(huì)釋放出能量并將部分能量轉(zhuǎn)移給周?chē)牧W?,?dǎo)致粒子從等離子體表面濺射出來(lái)。

等離子體源濺射在許多應(yīng)用中都具有重要作用,例如在薄膜沉積過(guò)程中,通過(guò)控制等離子體源濺射可以調(diào)節(jié)薄膜的成分和結(jié)構(gòu),從而影響薄膜的性能。此外,等離子體源濺射也被應(yīng)用于半導(dǎo)體制備過(guò)程中,用來(lái)清潔和改性半導(dǎo)體表面,以提高器件的性能和穩(wěn)定性。

所屬分類(lèi):儀器儀表/電工儀器儀表

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