在紫外光照射下，吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進行光聚合反應，形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果好，就有一個佳的曝光量。從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變，則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時，由于聚合不，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。
干膜為一種含羧基的有機物，也會含有一些金屬離子（如ca2+和mg2+），傳統(tǒng)的是用碳酸根去作用羧基，去除有機物，但是缺陷在于碳酸根容易反應產生沉淀（如碳酸鈣和碳酸鎂），粘連到板子上，粘上去的這塊區(qū)域在后續(xù)的去膜中去不掉，被當作線路了（本來這塊不是線路），造成短路。
顯影機分三個部分：
段是噴淋段，主要是利用高壓噴射無水碳酸鈉，使未被曝光的阻焊劑溶解下來；
第二段是水洗段，是利用高壓泵水洗，先將殘留溶液水洗干凈，然后進入循環(huán)水洗，洗凈；
第三段是吹干段，吹干段前后各有一個風刀主要是用熱風把板子吹干，再有吹干段的溫度較高也可把板子烘干。
顯影液的濃度、溫度和顯影時間都是非常重要的。如果濃度太高或溫度太高，顯影液會過于強烈地溶解光敏膠層，導致電路圖案變形或失真。如果濃度太低或溫度太低，顯影液則無法有效地溶解未曝光的部分，導致電路圖案不清晰或不完整。因此，顯影液的濃度、溫度和顯影時間嚴格控制，以確保 PCB 的質量和穩(wěn)定性。
調整刷輥壓力
毛刷干凈柔韌，無毛刺，不劃傷版面
根據(jù)測試結果調節(jié)壓力，網點還原
壓力盡可能小，壓力大版材難通過，實地和小網點容易損失
毛刷輥旋轉方向與版材前進方向相逆，有利于顯影效果
根據(jù)版材厚度范圍調節(jié)，顯影寬容度
日常保養(yǎng)和維護
1、顯影液循環(huán)、膠液循環(huán)、水循環(huán)順暢，無堵塞；
2、定期更換顯影液，同時清洗顯影機(建議每天清洗一次)；
3、定期更換過濾芯，一般每周更換一次(建議使用100u濾芯)；
4、定期更換保護膠并清洗保護膠系統(tǒng)(建議每天一次)；
5、每天擦洗膠輥(可能干凈的軟布沾顯影液擦冼)；
6、定期清洗膠輥，各膠輥之間壓力均勻(每周一次)；
7、定期清洗加熱段導軌(每周一次)；
8、整機清潔，表面不殘留顯影液或其它化學制劑
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