用途：

高真空退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6\"硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝。
一、設(shè)備結(jié)構(gòu):
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圓形6寸片
3、工藝布局:滿足客戶工藝要求
4、自動化程度:工控機(jī)控制系統(tǒng)自動控制工藝流程
5、送取片方式:手動進(jìn)出舟。
6、外形:主機(jī)1臺，主機(jī)架為臥式兩管。
二、主要技術(shù)參數(shù):
1、加熱爐管有效口徑:滿足6英寸硅片?？上蛳录嫒?寸和4寸硅片。
2、工作溫度范圍: 200~800℃
3、恒溫區(qū)長度及精度: 600mm，
4、控制方式:由工控機(jī)統(tǒng)一管理工藝

5、真空度：2*10-4 Pa

主營產(chǎn)品: 擴(kuò)散爐,退火爐,隧道式燒結(jié)爐,真空爐

青島晨立電子有限公司成立于2009年，是半導(dǎo)體設(shè)備及零部件、電子設(shè)備及電子元器件生產(chǎn)、研發(fā)、銷售廠家。為客戶提供材料熱處理、電加熱設(shè)備及系統(tǒng)集成等全套解決方案。 主要產(chǎn)品：高低溫?cái)U(kuò)散爐、實(shí)驗(yàn)爐、共晶爐、燒結(jié)爐、加磁爐、智能溫度控制系統(tǒng)和替代進(jìn)口的擴(kuò)散爐爐體等，同時(shí)承接各種微電子生產(chǎn)線，進(jìn)口半導(dǎo)體設(shè)備的翻新升級改造及各大專院校科研院所的非標(biāo)研發(fā)定制工作。 公司本著和諧、共贏，以“質(zhì)量求發(fā)展、以誠信為根本、以客戶為中心、以用戶滿意”為終目標(biāo)的企業(yè)方針，為客戶提供的產(chǎn)品，優(yōu)良的服務(wù)。

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  氧化鉀擴(kuò)散爐磷硼擴(kuò)散爐稀有金屬熱處理爐砷化鎵提純爐

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  產(chǎn)品名：擴(kuò)散爐

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  晶圓高真空退火爐

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  產(chǎn)品名：退火爐

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  科研院所實(shí)驗(yàn)室用真空焊接爐-真空爐

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  立式擴(kuò)散爐-立式退火爐

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  真空共晶爐-IGBT真空爐青島晨立

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  產(chǎn)品名：真空爐

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  888元

  產(chǎn)品名：隧道爐