蝕刻(etching)又稱為光化學蝕刻,是把材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術,可分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻(photochemical etching),指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長,(或者使用老式的左右搖擺蝕刻機)側(cè)蝕越嚴重。側(cè)蝕嚴重影響印制導線的精度,嚴重側(cè)蝕將使制作精細導線成為不可能。當側(cè)蝕和突沿降低時,蝕刻系數(shù)就升高,高的蝕刻系數(shù)表示有保持細導線的能力,使蝕刻后的導線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是錫-鉛合金,錫,錫-鎳合金或鎳,突沿過度都會造成導線短路。因為突沿容易斷裂下來,在導線的兩點之間形成電的橋接。
板子上下兩面以及板面上各個部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的。蝕刻過程中,上下板面的蝕刻速率往往不一致。一般來說,下板面的蝕刻速率上板面。因為上板面有溶液的堆積,減弱了蝕刻反應的進行??梢酝ㄟ^調(diào)整上下噴嘴的噴啉壓力來解決上下板面蝕刻不均的現(xiàn)象。蝕刻印制板的一個普遍問題是在相同時間里使全部板面都蝕刻干凈是很難做到的,板子邊緣比板子中心部位蝕刻的快。采用噴淋系統(tǒng)并使噴嘴擺動是一個有效的措施。更進一步的改善可以通過使板中心和板邊緣處的噴淋壓力不同,板和板后端間歇蝕刻的辦法,達到整個板面的蝕刻均勻性。
蝕刻技術其特征在于:
1.)蝕刻速率(安培/分鐘)
2.)選擇性:S=蝕刻速率材料1/蝕刻速率據(jù)說材料2對材料1比對材料2具有S的選擇性。
3.)各向異性:A=1-橫向蝕刻速率/垂直蝕刻速率
4.)欠切:如果0.8 um的線是由使用1 um的光致抗蝕劑線作為掩模的蝕刻產(chǎn)生的,那么對于該特定的蝕刻,據(jù)說工藝偏差是0.1um。
金屬蝕刻加工要注意哪些?
1、要加工的金屬零件形狀復雜,如很薄的不銹鋼網(wǎng)片就是一個很典型的例子。通過使用蝕刻技術能降低成型難度及加工成本。
2、如果您的產(chǎn)品非常薄(厚度在0.03mm--1mm之間),采用其它工藝的話,也許會造成產(chǎn)品變形。而蝕刻卻能產(chǎn)品不變形。一般情況下,越薄的產(chǎn)品,精密度就越高。
3、蝕刻加工過程不會改變金屬材料的硬度、強度、可成型性等物理性質(zhì)。
4、有些金屬材料在沖壓過程中易開裂,且易產(chǎn)生卷邊的毛剌,影響產(chǎn)品的裝配,而蝕刻能這些材料完好無損。
5、磁性軟料在蝕刻加工后可保持它們原本的物理性質(zhì)。
6、蝕刻加工出來的產(chǎn)品無毛刺。
蝕刻的必要性主要在于它能夠通過化學或電化學作用,將金屬或其他材料的表面轉(zhuǎn)化為所需要的形狀和圖案。這種技術不僅能夠大大簡化產(chǎn)品的制造過程,還可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。通過選擇合適的蝕刻劑和工藝參數(shù),還能實現(xiàn)對材料表面的保護和加工,使其具有更強的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。
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