供應(yīng)商 | 深圳市光明區(qū)鑫誠物資回收經(jīng)營部 店鋪 |
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關(guān)鍵詞 | 揭陽揭西縣真空鍍膜機(jī)回收快速上門,中山小欖真空鍍膜機(jī)回收現(xiàn)場定價(jià),肇慶鼎湖區(qū)真空鍍膜機(jī)回收上門看貨,河源源城區(qū)真空鍍膜機(jī)回收快速上門 |
所在地 | 廣東深圳光明新區(qū)公明 |
11年
3. 開維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機(jī)械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開關(guān),延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅,若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開高壓,高壓會(huì)達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。
回收二手電鍍廠生產(chǎn)線設(shè)備?;厥照婵斟兡C(jī)、回收CCZK-OGS光學(xué)鍍膜設(shè)備、二手多弧離子真空鍍膜機(jī)回收、二手回收連續(xù)磁控鍍膜生產(chǎn)線、二手CCZK-RC卷繞鍍膜機(jī)回收、二手回收車燈保護(hù)膜鍍膜設(shè)備、回收電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)、回收二手磁控濺射鍍膜機(jī)流水線設(shè)備
離子鍍膜,一個(gè)精密的工藝過程,其核心是離子濺射鍍膜。對于導(dǎo)電靶,偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色,采用直流電場的精密調(diào)控,確保陰極表面的電子被加速,進(jìn)而轟擊氣體分子,引發(fā)電離現(xiàn)象。這個(gè)過程中,電子被電場驅(qū)動(dòng),形成雪崩效應(yīng),直至氣體被擊穿,形成穩(wěn)定的電離電流,進(jìn)而驅(qū)動(dòng)離子加速,撞擊靶材,將原子釋放并沉積在樣品表面,形成所需涂層。
偏壓電源,就像熒光燈中的核心組件,它通過高頻轉(zhuǎn)換電路,以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細(xì)調(diào)整通過改變高頻轉(zhuǎn)換電路的輸入電壓實(shí)現(xiàn),穩(wěn)壓性能高達(dá)1%。這種設(shè)計(jì)允許在工藝所需電壓的同時(shí),通過調(diào)整脈沖寬度來控制工件的加熱效果,適用于各種涂層需求,從工具保護(hù)到裝飾美化。
真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域,
JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設(shè)備(加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機(jī)),針對汽車、摩托車燈具而設(shè)計(jì)的,在一個(gè)真空室內(nèi)完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護(hù)膜,這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應(yīng)用于光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事保護(hù)膜;防潮增透膜;防銹抗腐蝕;耐磨增硬膜。
發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因?yàn)殇X源中含有雜質(zhì)過多,一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無論是涂布機(jī)的真空度不達(dá)標(biāo),都要達(dá)到10—7倍Pa。(不準(zhǔn)確)。涂敷物品的清洗不,表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理,溫度過高或過低。涂層項(xiàng)目的潛在設(shè)置不合理。真空擴(kuò)散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度,不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā),電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。
真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水,來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用
真空鍍膜加工過程中,真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備,工作過程中有高頻電流過程,電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻,避免設(shè)備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié),并保持相對恒溫,反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設(shè)備來準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中,根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求,選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
所屬分類:設(shè)備回收/工廠設(shè)備回收
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