中國電子工程用高純硅烷行業(yè)發(fā)展形勢與前景方向分析報告2023-2029年
【報告編號】: 401007
【出版時間】: 2023年6月
【出版機構】: 中研智業(yè)研究院
【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞
【報告價格】:【紙質版】: 6500元 【電子版】: 6800元 【紙質+電子】: 7000元

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章 半導體、光伏產業(yè)用高純硅烷概述 16
1.1 高純硅烷簡介 16
1.2 高純硅烷的主要基本性能與質量指標 17
1.3 高純硅烷的主要應用領域 18
1.4 高純硅烷在發(fā)展我國電子工業(yè)中的重要作用 19
二章 電子特種氣體及其應用市場 20
2.1 電子特種氣體概述 20
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面 21
2.3 電子特種氣體的純凈度要求 23
2.4 電子特種氣體產品市場競爭的焦點問題 25
2.4.1 對電子特種氣體雜質、純度要求的問題 25
2.4.2 氣體配送及供應問題 26
2.4.3 儲存、使用中的安全性問題 27
2.4.4 成本性問題 28
2.5 國內外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述 29
2.5.1 境外電子特種氣體生產與市場情況 29
2.5.2 國內電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展 30
三章 高純硅烷氣體性能指標及制備、凈化的工藝路線 33
3.1 高純硅烷的性能指標 33
3.2 高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝路線 34
3.2.1 制備工藝法概述 34
3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷 34
3.2.2.1 工藝過程 34
3.2.2.2 主要反應 36
3.2.2.3 工藝特點 36
3.2.2.4 工藝法存在的問題 37
3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷 37
3.2.3.1 工藝過程 37
3.2.3.2 主要反應 39
3.2.3.3 工藝特點 39
3.2.3.4 工藝法存在的問題 40
3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷 41
3.2.4.1 工藝過程 41
3.2.4.2 主要反應 41
3.2.4.3 工藝特點 41
3.2.4.4 工藝法存在的問題 42
3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷 42
3.2.5.1 工藝過程 42
3.2.5.2 主要反應 42
3.2.5.3 工藝特點 42
3.2.5.4 工藝法存在的問題 43
3.2.6 烷氧基硅烷歧化法 43
3.2.6.1 工藝過程 43
3.2.6.2 主要反應 44
3.2.6.3 工藝特點 44
3.2.6.4 工藝法存在的問題 44
3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線 45
3.3.1 氣體的凈化方法概述 45
3.3.2 高純硅烷的凈化過程 45
3.4 工業(yè)高純硅烷氣體的包裝及貯運 46
四章 國內外高純硅烷生產與主要企業(yè)現況 47
4.1 世界高純硅烷產銷、市場規(guī)模的概況 47
4.2 國外高純硅烷主要生產企業(yè)產銷情況 47
4.3 國外高純硅烷主要生產企業(yè)簡況 48
4.3.1 REC Silicon公司 48
4.3.2 Dowcorning公司 51
4.3.3 SODIFF新素材有限公司 54
4.3.4 MEMC公司 57
4.3.5 Air Liquid公司 60
4.3.6 日本電氣工業(yè)公司 64
4.3.7 大陽日酸公司 67
4.3.8 Evonik Industries公司 70
4.4 國內硅烷業(yè)的發(fā)展概述 72
4.4.1 我國高純硅烷業(yè)發(fā)展的概述 72
4.4.2 我國硅烷研發(fā)、生產的歷史 74
4.5 國內高純硅烷生產企業(yè)現況 75
4.5.1 國內高純硅烷生產企業(yè)總述 75
4.5.2 浙江中寧硅業(yè)有限公司 75
4.5.3 浙江賽林硅業(yè)有限公司 81
4.5.4 滁州市硅谷特種氣體有限公司 88
4.5.5 六九硅業(yè)有限公司 95
4.5.6 浙江金華美晶硅電子有限公司 102
4.5.7 黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司 108
4.5.8 深圳市金業(yè)長健新材料股份有限公司 115
五章 高純硅烷主要應用領域的概述 122
5.1 高純硅烷在集成電路中的應用 122
5.1.1 集成電路芯片制程 122
5.1.2 化學氣相沉積和氣體應用 122
5.1.3 高純硅烷在化學氣相沉積中作為氣源形成的薄膜 131
5.2 高純硅烷在薄膜硅太陽電池中的應用 132
5.2.1 非晶硅薄膜太陽能電池 132
5.2.2 Si薄膜的材料特性 132
5.2.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用 136
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應用 138
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應用 139
5.4 高純硅烷在其它領域的應用 139
5.4.1 在特種玻璃制造中的應用 139
5.4.2 在電子部件制造中的應用 140
5.4.3 在化合物半導體材料制造中的應用 140
5.5 高純硅烷在電子信息產品中應用市場需求量的測算 141
六章 高純硅烷主要應用市場之一—集成電路產業(yè)的現況與趨勢 143
6.1 世界半導體硅片生產與市場發(fā)展 143
6.1.1 世界半導體生產的現況 143
6.1.2 世界半導體硅片的生產狀況 145
6.2 我國半導體晶圓生產與市場現況與發(fā)展 145
6.2.1 我國集成電路市場、產業(yè)發(fā)展現狀 145
6.2.2 我國集成電路晶圓制造業(yè)情況 153
七章 高純硅烷主要應用市場之二 —薄膜太陽能電池產業(yè)的現況與趨勢 154
7.1 國內外光伏產業(yè)的發(fā)展 154
7.1.1 世界光伏產業(yè)的快速發(fā)展 154
7.1.2 我國光伏產業(yè)發(fā)展環(huán)境與現況 155
7.2 薄膜太陽能電池的生產與市場 163
7.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種 163
7.2.2 薄膜太陽能電池未來市場發(fā)展前景 171
7.2.3 薄膜太陽能電池生產及在光伏市場上的份額變化 174
7.3 國內外薄膜太陽能電池的主要生產企業(yè) 175
八章 高純硅烷主要應用市場之三 —液晶顯示器產業(yè)的現況與趨勢 180
8.1 世界平板顯示器產業(yè)發(fā)展現況 180
8.2 我國平板顯示器產業(yè)現況與未來發(fā)展預測 181
8.2.1 我國液晶顯示產業(yè)發(fā)展概述 181
8.2.2 我國LCD面板生產現況與未來幾年發(fā)展預測 183
8.2.3 我國發(fā)展平板顯示產業(yè)的相關政策及未來發(fā)展的預測、分析 185
 

圖表目錄
圖表 1 硅烷性能比較 18
圖表 2 氣體按其特性分類圖 21
圖表 3 雜質對硅低溫選擇性外延沉積的影響 24
圖表 4 露點與集成度的關系 25
圖表 5 微粒直徑與集成度的關系 25
圖表 6 特殊氣體供應流程圖 27
圖表 7 硅烷的性能指標 33
圖表 8 氫化鋰還原三氯氫硅制備硅烷工藝流程圖 38
圖表 9 2020-2022年世界高純硅烷產銷分析 47
圖表 10 2020-2022年世界高純硅烷市場規(guī)模分析 47
圖表 11 2022年國外高純硅烷主要生產企業(yè)產銷情況 47
圖表 12  近4年REC Silicon公司   流動資產周轉次數變化情況 48
圖表 13  近4年REC Silicon公司   總資產周轉次數變化情況 49
圖表 14  近4年REC Silicon公司   銷售毛利率變化情況 49
圖表 15  近4年REC Silicon公司   資產負債率變化情況 49
圖表 16  近4年REC Silicon公司   產權比率變化情況 50
圖表 17  近4年REC Silicon公司   固定資產周轉次數情況 50
圖表 18  近4年Dowcorning公司流動資產周轉次數變化情況 52
圖表 19  近4年Dowcorning公司總資產周轉次數變化情況 52
圖表 20  近4年Dowcorning公司銷售毛利率變化情況 52
圖表 21  近4年Dowcorning公司資產負債率變化情況 53
圖表 22  近4年Dowcorning公司產權比率變化情況 53
圖表 23  近4年Dowcorning公司固定資產周轉次數情況 54
圖表 24  近4年SODIFF新素材有限公司流動資產周轉次數變化情況 55
圖表 25  近4年SODIFF新素材有限公司總資產周轉次數變化情況 55
圖表 26  近4年SODIFF新素材有限公司銷售毛利率變化情況 55
圖表 27  近4年SODIFF新素材有限公司資產負債率變化情況 56
圖表 28  近4年SODIFF新素材有限公司產權比率變化情況 56
圖表 29  近4年SODIFF新素材有限公司固定資產周轉次數情況 57
圖表 30  近4年MEMC公司流動資產周轉次數變化情況 58
圖表 31  近4年MEMC公司總資產周轉次數變化情況 58
圖表 32  近4年MEMC公司銷售毛利率變化情況 59
圖表 33  近4年MEMC公司資產負債率變化情況 59
圖表 34  近4年MEMC公司產權比率變化情況 59

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