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供應(yīng)商	深圳市光明區(qū)鑫誠(chéng)物資回收經(jīng)營(yíng)部店鋪
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所在地	廣東深圳光明新區(qū)公明

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

電鍍?cè)O(shè)備回收電鍍生產(chǎn)線回收

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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。?

對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。

3. 開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開(kāi)機(jī)械泵、予抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開(kāi)前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān)，延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅，若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開(kāi)高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。

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離子鍍膜，一個(gè)精密的工藝過(guò)程，其核心是離子濺射鍍膜。對(duì)于導(dǎo)電靶，偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色，采用直流電場(chǎng)的精密調(diào)控，確保陰極表面的電子被加速，進(jìn)而轟擊氣體分子，引發(fā)電離現(xiàn)象。這個(gè)過(guò)程中，電子被電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)，形成雪崩效應(yīng)，直至氣體被擊穿，形成穩(wěn)定的電離電流，進(jìn)而驅(qū)動(dòng)離子加速，撞擊靶材，將原子釋放并沉積在樣品表面，形成所需涂層。

偏壓電源，就像熒光燈中的核心組件，它通過(guò)高頻轉(zhuǎn)換電路，以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細(xì)調(diào)整通過(guò)改變高頻轉(zhuǎn)換電路的輸入電壓實(shí)現(xiàn)，穩(wěn)壓性能高達(dá)1%。這種設(shè)計(jì)允許在工藝所需電壓的同時(shí)，通過(guò)調(diào)整脈沖寬度來(lái)控制工件的加熱效果，適用于各種涂層需求，從工具保護(hù)到裝飾美化。

發(fā)黑通常是由于過(guò)早氧化造成的。泛黃一般是因?yàn)殇X源中含有雜質(zhì)過(guò)多，一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無(wú)論是涂布機(jī)的真空度不達(dá)標(biāo)，都要達(dá)到10—7倍Pa。（不準(zhǔn)確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過(guò)高或過(guò)低。涂層項(xiàng)目的潛在設(shè)置不合理。真空擴(kuò)散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用

真空鍍膜加工過(guò)程中，真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備，工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程，電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對(duì)恒溫，反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來(lái)準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求，選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來(lái)進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的卷繞控制要求的轉(zhuǎn)矩控制，以般采用直流驅(qū)動(dòng)，但是隨著交流驅(qū)動(dòng)技術(shù)的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機(jī)或交流異步電機(jī)驅(qū)動(dòng)。丹佛斯FC302系列驅(qū)動(dòng)器具有伺服級(jí)的驅(qū)動(dòng)性能，驅(qū)動(dòng)交流異步電機(jī)也有實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)的轉(zhuǎn)矩控制，為這個(gè)行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設(shè)置幾個(gè)簡(jiǎn)單的參數(shù)，就能滿足實(shí)際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡(jiǎn)便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的傳動(dòng)結(jié)構(gòu)：
　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)檎?br /> 　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)樨?fù)
　　3驅(qū)動(dòng)懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的典型傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉(zhuǎn)向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時(shí)有正、反兩種轉(zhuǎn)向，對(duì)應(yīng)反、正兩種轉(zhuǎn)矩。

　　真空鍍膜機(jī)傳動(dòng)系統(tǒng)的特點(diǎn)：
　　1.由于真空室狹小，無(wú)法安裝張力檢測(cè)裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅(qū)動(dòng)的電機(jī)直接控制。因此收、放卷驅(qū)動(dòng)器都工作于轉(zhuǎn)矩工作模式。對(duì)于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動(dòng)作用的冷卻輥上沒(méi)有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動(dòng)薄膜；收、放卷張力相差較大時(shí)，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅(qū)動(dòng)控制方面的難題。