工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對(duì)水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來(lái)越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。
在維護(hù)中，需要注意哪些問(wèn)題？
河南鍋爐軟化水設(shè)備定制，河南工業(yè)軟化水設(shè)備生產(chǎn)廠家，河南小型軟化水設(shè)備地址【河南江宇環(huán)保科技公司】

很多EDI模塊的操作人員或者管理人員并不知道如何維護(hù)EDI，所以小編就給大家分享一些關(guān)于EDI模塊維護(hù)的要點(diǎn)，供大家在一定程度上自己檢查和糾正。
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，我們需要根據(jù)其故障現(xiàn)象選擇相應(yīng)的維護(hù)方法。EDI設(shè)備的主要故障是出水量低、水質(zhì)差。
針對(duì)這兩種故障，有不同的維修點(diǎn)，具體如下:
1. 江宇環(huán)保EDI模塊低產(chǎn)水量維護(hù)要點(diǎn):
為了修復(fù)EDI模塊的低產(chǎn)水量，我們需要分析是否是由于內(nèi)部污垢，閥門和開(kāi)關(guān)狀態(tài)異常，管道或部件損壞，或其他原因造成的。
1. 干凈的EDI。
如果是由于EDI內(nèi)部結(jié)垢導(dǎo)致出水量少，則需要清洗;，樹(shù)脂需要清洗，因?yàn)闃?shù)脂往往容易形成污垢;其次，對(duì)每個(gè)管道的管道進(jìn)行清洗，以確保污垢被清除。
2. 調(diào)整閥門和開(kāi)關(guān)狀態(tài)。
當(dāng)閥門沒(méi)有調(diào)整到正確的位置時(shí)(特別是控制出水的閥門)，會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)水量減少，而各部件的開(kāi)關(guān)，特別是流量開(kāi)關(guān)，如果設(shè)置不正確，會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)水量減少。
由此引起的產(chǎn)水量變低，只需調(diào)整閥門和開(kāi)關(guān)狀態(tài)即可。
3.
維修或更換部件。
如果管道或其他部件出現(xiàn)問(wèn)題，例如泄漏，則需要進(jìn)行維修;如果通過(guò)修理無(wú)法解決問(wèn)題，則需要更換損壞嚴(yán)重的部件。
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離子交換樹(shù)脂的應(yīng)用

1.羅門哈斯離子交換樹(shù)脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子，起到凈化水的作用。

2.羅門哈斯離子交換樹(shù)脂拋光樹(shù)脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來(lái)***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)。一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上，以及對(duì)TOC、SIO2都有一定的控制能力。

-LXM30Z運(yùn)行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar（100psi）
允許進(jìn)水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時(shí)的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見(jiàn)下面說(shuō)明）
說(shuō)明：實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進(jìn)水條件

阻垢劑投加裝置報(bào)價(jià)

如何運(yùn)行和維護(hù)阻垢劑加藥裝置呢？

1、清洗攪拌槽，廢水從槽出口排出。

2、檢查攪拌裝置安裝是否平穩(wěn)牢固。并檢查電源是否已打開(kāi)。在投入使用分鐘，沒(méi)有噪音和運(yùn)行平穩(wěn)是正常的。

3、檢查計(jì)量泵的安裝是否平穩(wěn)牢固。看看電源是否開(kāi)著。

4、檢查管子，頭發(fā)部件等是否安裝正確。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。